Gebraucht MAXIS 300LAH #9258012 zu verkaufen

MAXIS 300LAH ist eine fortschrittliche Ätz- und Ascheausrüstung für Anwendungen mit hohem Durchsatz. Dieses System ist mit einer 300 Nanometer Galliumionenquelle und einer Hochgeschwindigkeitsimpulssteuerung ausgestattet, um überlegene Ätz- und Ascheergebnisse zu liefern. 300LAH besteht aus einem kompakten vierachsigen Robotersteuergerät, einem automatischen Waferlader, einem Multimodus-Wafer-Handler und einer 300 Nanometer Ga-Ionenquelle. Die Wafer-Handhabungseinheit ermöglicht das gleichzeitige Ätzen und Aschen von zwei Wafern mit einem Durchsatz von bis zu 500 Wafern pro Stunde. Der Autolader ermöglicht das schnelle Laden von bis zu 15 Wafern gleichzeitig, während der Multimodus-Wafer-Handler die Handhabung verschiedener Wafer-Muster ohne zusätzliche manuelle Einrichtung ermöglicht. Die 300-Nanometer-Ga-Ionenquelle wurde entwickelt, um qualitativ hochwertige Ätz- und Ascheergebnisse zu erzielen. Die Ionenquelle ist mit einem Hochtemperatur- und Hochdruckstrahl-Skimmer ausgestattet, um eine gleichmäßige, hohe Flussleistung zu erzeugen. Es verfügt auch über einen proprietären Elektronenstoßemitter, der einen Strahl von hochenergetischen Ionen erzeugt, der die Oberfläche des Wafers durchdringt, was zu verbesserten Ätz- und Ascheergebnissen führt. Darüber hinaus kann die Strahlproduktion angepasst werden, um unterschiedliche Oberflächeneffekte für eine Vielzahl von Ergebnissen zu erzielen. Die fortschrittliche Autofokusmaschine trägt zur Verbesserung der Prozessgleichmäßigkeit und -genauigkeit bei. Das Werkzeug verfügt über einen selbstjustierenden Stufe-Fokus-Ebenenspalt zur präzisen Kontrolle der Form und Richtung des Strahls, wodurch sichergestellt wird, dass die Ionen den Wafer mit der für einen qualitativen Ätz- und Ascheprozess erforderlichen Präzision treffen. MAXIS 300LAH ist mit hervorragenden Sicherheitsmerkmalen wie Ionenkammerreinigung, Asset-Diagnose, Strahl- und Wafer-Sicherheitsrückkopplungssystemen und einem Alarmmodell ausgestattet. Alle diese Funktionen ermöglichen einen sicheren und zuverlässigen Betrieb durch die Bereitstellung einer sicheren Umgebung für die Benutzer. Abschließend ist 300LAH eine leistungsstarke multifunktionale Ätz- und Aschermaschine für Anwendungen mit hohem Durchsatz. Die 300-Nanometer-Gallium-Ionen-Quelle, das Autofokus-System und erweiterte Sicherheitsfunktionen ermöglichen einen effizienten und genauen Ätz- und Ascheprozess. Diese Einheit ist ideal für große Produktions- und Forschungszwecke.