Gebraucht MAXIS 300LC #293643703 zu verkaufen

MAXIS 300LC ist eine vollautomatische Ätz- und Aschermaschine, die für High-End-Ätz-, Asche- und chemisch-mechanisches Polieren (CMP) -Prozesse konzipiert ist. Es ist in ein geschlossenes und versiegeltes System integriert, das eine saubere und kontrollierte Umgebung bietet, um konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. Die Einheit umfasst einen Autoloader sowie Baugruppen wie eine Substrat-Vorbehandlungseinheit, Ätzkammer, CMP-Kammer und einen Heckklappenscanner. Eine benutzerfreundliche Touchscreen-Oberfläche ermöglicht die einfache Eingabe von Ätzparametern, die auf die Prozessanforderungen zugeschnitten werden können. Der Autoloader ist in der Lage, eine Vielzahl verschiedener Substrate zu handhaben, einschließlich Verbundhalbleiter, Metalllegierungen und Keramiken. Die Substrat-Vorbehandlungseinheit von 300LC Ätzer/Ascher ist eine automatisierte Maschine, die Ultraschall verwendet, um Prozessmedien aus dem Substrat zu injizieren und zu entfernen. Dieses Merkmal ermöglicht ein präzises und gleichmäßiges Ätzen auf der Substratoberfläche. Die Ätzkammer ist ein mehrstufiges Werkzeug, das eine hohe Ätzfähigkeit sowie ein optionales Auto-Stopper-Element für eine präzise Ätztiefenkontrolle ermöglicht. Die CMP-Kammer ist für hohe Ätzraten und niedrigen CMP-Stromverbrauch ausgelegt. Es ist mit einem automatischen Pitchmatcher ausgestattet, der eine präzise Steuerung der Ätzrate ermöglicht. MAXIS 300LC wurde entwickelt, um eine vielseitige CMP-Fähigkeit mit Funktionen wie variabler Tonhöhe und variabler Frequenz zur Optimierung von Ätz- und CMP-Prozessen bereitzustellen. Ein optionaler Plasmaascher ist ebenfalls erhältlich. Der Plasmaascher verwendet die RF-Technologie, um eine gleichmäßige Ätzung und Passivierung auf einer Vielzahl von Substraten zu erzeugen. Zusätzlich ermöglicht ein Temperaturregelmodul auf 300LC die Temperaturüberwachung und Kompensation der Ätz- und CMP-Prozesse. MAXIS 300LC unterstützt komplexe mehrstufige Kantenprozesse und bietet maximale Prozesskontrolle und Einheitlichkeit. Das Modell ist auf wiederholbare Ergebnisse ausgelegt, die konsistente und zuverlässige Ätz- und CMP-Prozesse ermöglichen. Das Gerät ist auch mit einem atmosphärischen Steuermodul ausgestattet, mit einstellbarem Druck und Sauerstoffgehalt für eine präzise Prozesssteuerung. Insgesamt ist 300LC Ätzer/Ascher ein leistungsfähiges und vielseitiges Ätz- und CMP-System, das eine Vielzahl von Substraten und Prozessen verarbeiten kann. Es bietet überlegene Leistung, präzise Prozesskontrolle und wiederholbare Ergebnisse. Es ist eine ideale Lösung für Ätz- und CMP-Anwendungen in der Halbleiterherstellung, Forschung und Entwicklung und anderen Industrien.