Gebraucht NOVELLUS Gamma 2100 #9083213 zu verkaufen

NOVELLUS Gamma 2100 ist eine Ätz-/Aschermaschine für mehrere Präzisionsätzanwendungen. Es eignet sich für Anwendungen, die eine hochauflösende Bildgebung, ein gleichmäßiges Ätzen und eine enge Steuerung der Ätzraten erfordern. Dieses System ermöglicht die Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien, darunter Metalle, Dielektrika und Verbundhalbleiter. Gamma 2100 verwendet eine Niederdruck-Wafer-Transporteinheit, um ein präzises und wiederholbares Muster auf der Oberfläche des Wafers zu erhalten. Die Maschine ist auch mit einem präzisen und wiederholbaren Schrittmotor ausgestattet, der die Positionierung und Abtastung von Wafern steuert, mit der Fähigkeit, gemusterte Filmschichten auszurichten und abzulegen. NOVELLUS Gamma 2100 ist für die Verarbeitung von Wafern bis 300 mm Durchmesser konzipiert und nutzt eine 2x reduzierende bildgebende Linse und eine Faraday Cage Plate, um die bildgebende Leistung zu maximieren. Das Werkzeug verwendet eine breite Palette von Gasen, und es ist in der Lage, mehrere Prozessschritte anzuwenden, einschließlich Maskieren, Ätzen, Aschen und Abisolieren. Gamma 2100 bietet eine präzise Ätzsteuerung mit der Fähigkeit zu höherer Selektivität, geringerer Beanspruchung und besserer Tiefe der Ätzsteuerung. NOVELLUS Gamma 2100 verwendet auch eine patentierte nach oben gerichtete Quarzfensterasche, um den Wafer während des Ätzprozesses zu schützen. Der Ascher bietet ein gleichmäßiges Ätzen kleiner Merkmale sowie sehr große Merkmale auf dem Wafer. Es verwendet auch ein Fliesenverfahren, um den Wafer effizienter zu ätzen. Gamma 2100 wurde entwickelt, um die hervorragenden Eigenschaften der NOVELLUS-Serie von Hochleistungs-Ätz- und Aschechemikalien voll auszuschöpfen. NOVELLUS Gamma 2100 ist der Vorteil der Wahl für kritische Komponenten in hochleistungsfähigen mikroelektronischen Geräten. Es zeichnet sich durch Zuverlässigkeit und Konsistenz der Verarbeitung aus und bietet gleichzeitig eine überlegene Ätz- und Ascheleistung für die oberste Dünnschichtabscheidung. Das Modell ist auch so konzipiert, dass eine Vielzahl von photolithographischen Prozessen, die ein hohes Maß an Automatisierung erfordern, eine überlegene Gleichmäßigkeit erreichen.