Gebraucht NOVELLUS Gamma 2130 #293773386 zu verkaufen

NOVELLUS Gamma 2130 ist ein Ätzer/Ascher zur plasmabasierten Verarbeitung von Halbleiterscheiben. Dank der einzigartigen Ionenplasmaquelle und der integrierten Endura® Etch Control ist die Maschine in der Lage, erweiterte Ätz- und Ascheprozesse durchzuführen. Diese Ausrüstung ermöglicht eine schnelle und präzise Waferätzung, um kleine, komplizierte Merkmale auf dem Wafer zu schaffen. Gamma 2130 verfügt über eine Plasmaquelle, die in der Lage ist, hochdichtes Ionenplasma mit bis zu 5kW HF-Leistung zu erzeugen. Dies ermöglicht eine robuste In-situ-Ätz-/Ascheprozesssteuerung und außergewöhnliche Ätzgleichmäßigkeit. Das integrierte Endura® Etch Control System optimiert den Ätzprozess und sorgt für maximale Gleichmäßigkeit der geätzten Muster. NOVELLUS Gamma 2130 ist für einen einfachen und flexiblen Wafertransport konzipiert, was zu minimaler Kammerabkühlung und schnellen Taktzeiten führt. Die innovative Shuttle-Ladeeinheit ermöglicht ein schnelles Be- und Entladen der Ätzkammer mit minimalen Ausfallzeiten durch automatische Tür- und Positionssensoren. Darüber hinaus ist die Kammer mit den Multi- Tower™ Türmen ausgestattet, die je nach Topographie des Wafers horizontal und vertikal verstellbar sind. Gamma 2130 ist eine eigenständige, integrierte Ätz-/Aschemaschine, die bis zu 200mm Wafer ätzen kann. Seine Kammer ist mit einem gitterlosen Boden und einer optimierten Quellverteilung ausgestattet, die eine exzellente Parallelverarbeitung gewährleistet und so zu einer hohen Produktivität und Ätzung kleiner Merkmale führt. Darüber hinaus ist die Maschine dank ihrer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche und dem eingebetteten Endura® Etch Control-Tool einfach zu bedienen. NOVELLUS Gamma 2130 ist daher ein ideales Ätz-/Aschegut für eine breite Palette fortschrittlicher Halbleiterprozesse wie MEMS, TSV, Through Silicon Vias und andere. Mit seinem zuverlässigen Betrieb und hohem Durchsatz kann Gamma 2130 in der Produktion und Entwicklung in der Hochvolumen-Halbleiterherstellung eingesetzt werden.