Gebraucht NOVELLUS Gamma 300 #132117 zu verkaufen

NOVELLUS Gamma 300 ist ein elektrochemischer Einwafer-Ätzer/Ascher für den Einsatz im fortschrittlichen Photomasken-Lithographieverfahren. Es ist mit einem leistungsstarken Plasmasystem ausgestattet, das bis zu 70 Watt RIE-Leistung produzieren kann und Polysilizium, Siliziumoxid und Aluminium bis zu 2700 Angström tief ätzen kann. Gamma 300 verwendet mehrere fortgeschrittene Ätztechniken, einschließlich Control Grid Reactive Ion Etching (CGRIE) und Planar Etching (PE). CGRIE ist eine Kombination aus doppelschichtiger Ätzung und einfacher oder mehrfacher Maskierung. PE ermöglicht die präzise Steuerung der vertikalen Ätzung mit hohem Seitenverhältnis. Beide Techniken erzeugen gleichmäßige hochwertige Muster mit sehr hoher Geschwindigkeit. NOVELLUS Gamma 300 verwendet auch eine patentierte Prozesskammer, die eine minimale Wartung erfordert und eine enge Reproduzierbarkeit der Ätztiefe aufweist. Es verfügt über einen Niederdruck-Niedertemperaturbetrieb, der die Abfallmenge reduziert und weniger Energie benötigt als andere Einzelwaferätzer. Das System verwendet einen Wafer-Stapler, ein Lade- und Entlademodul, einen Roboter-Manipulator und verschiedene Steuermodule. Alle diese Module werden über eine einfach zu bedienende Touchscreen-Schnittstelle gesteuert, mit der der Bediener problemlos durch die verschiedenen Ätzprozesse navigieren kann. Mit einem ausgezeichneten Durchsatz von bis zu 30 Wafern/Stunde und einem vollautomatischen Ätzprozess ist Gamma 300 eine gute Wahl für jede Ätz- und Photomasken-Lithographieanwendung.