Gebraucht NOVELLUS Gamma Express #9314670 zu verkaufen

NOVELLUS Gamma Express ist eine Ätz- und Aschemaschine, die sowohl für die Produktion als auch für die Entwicklung entwickelt wurde. Es ist in der Lage, Trockenätzen, Nassätzen, Aschen und Jodstrippen in einem einzigen System durchzuführen. Die Gamma Express-Plattform bietet Plasmakompatibilität in Kombination mit hochpräziser Ausrichtungstechnologie und schnellen Zyklus- und Substratqualifizierungszeiten. NOVELLUS Gamma Express wurde entwickelt, um einen hochwertigen, wiederholbaren Ätzprozess mit hohem Durchsatz zu liefern. Um dies zu erreichen, verwendet es eine fortschrittliche optische Ausrichtungseinheit, die in der Lage ist, eine präzise optische Abbildung auf einer Vielzahl von Substratmaterialien, einschließlich Silizium, Galliumarsenid und Siliziumoxid. Dies ermöglicht ein schnelles und genaues Ätzen kleiner Funktionsgrößen und gewährleistet, dass eine konsistente Bildverarbeitungsmaschine über den gesamten Ätzprozess erhalten bleibt. Der geätzte Prozess wird mit Hochfrequenzleistung (RF) durchgeführt, die von einem Hochspannungs-HF-Netzteil geliefert wird. Mit dieser HF-Leistung wird ein Plasmagas erzeugt, das dann basierend auf Substratposition, Material und Ätzparametern durch die Ätzkammer geleitet wird. Dieses Verfahren gewährleistet eine gleichmäßige Ätzumgebung mit hoher dielektrischer Isolation. Gamma Express ist auch in der Lage, Nassätzen für Anwendungen durchzuführen, die eine höhere Entfernungsrate und Selektivität erfordern. Dieses nassgeätzte Verfahren verwendet ein flüssiges Ätzmittel, wie XeF2, kombiniert mit einem optimierten HF-Muster, das ein präzises Ätzen gewährleistet. Dieses nassgeätzte Verfahren kann für Merkmale mit hohem Seitenverhältnis verwendet werden, z.B. Gräben, Vias und Kontaktlöcher. Neben dem Ätzen und Nassätzen ist NOVELLUS Gamma Express zum Aschen und Jodstrippen in der Lage. Das Aschverfahren verwendet ein Gas auf Sauerstoffbasis, um restliches lichtempfindliches organisches Schichtmaterial von einer Waferoberfläche zu entfernen. Das Jodstrippen hingegen nutzt ein chlorhaltiges Gas, um Photoresist zu entfernen, der während des Lithographieprozesses nicht vollständig entwickelt wurde. Insgesamt ist Gamma Express ein hochentwickeltes Werkzeug, das Präzisionsbildgebung, hohen Durchsatz, Kompatibilität mit mehreren Substraten und schnelle Zyklus- und Substratqualifikationszeiten bietet. Es ist ein zuverlässiges Ätz- und Veraschungsmaterial, das zur Maximierung der Renditeverbesserung sowohl für Produktions- als auch für Entwicklungsanwendungen entwickelt wurde.