Gebraucht NOVELLUS Vector #167888 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 167888
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
System, 12"
Dual FOUP
Single wafer load locks
Wafer centering with OTF
Undoped TEOS
ILDS
Bottom facilities
Remote cables: 75ft
User interface: Right
Heated process chamber manometer
Remote clean
Dual wavelength end point
Aera FC-PA7810C MFCs:
He 20L
Ar 10L
N2 10L
C2H2 10L
SiH4 500cc
SiH4 1.5L
CO2 35L
N2 35L
NH3 20L
NF3 10L
O2 20L
N2O 1.5L
N2O 25L
High Freq RF generator
Low Freq RF generator
SEC/GEM
HPM detector interface
2005 vintage.
NOVELLUS Vector ist eine Ätz-/Ascheausrüstung für den Einsatz in der Elektronikindustrie. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten, darunter gemeinsame Materialien wie Aluminium, Kupfer, Titan und komplexe Dielektrika wie Low-K-dielektrische Materialien. Vector ist eine auf Plasma verbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD) basierende Maschine, die Hochtemperatur-Ionen von reaktiven Gasen verwendet, um dielektrische und Metallschichten auf einem Substrat abzuscheiden. Dieser Vorgang wiederholt sich, während das Substrat relativ zur Ionenquelle bewegt wird, was zu komplexen Metall- und dielektrischen Abscheidungsmustern mit präzisen Topographien führt. NOVELLUS Vector ist in der Lage, bis zu 500-Micrometers Tiefe in Metallen und 200 Mikrometer in nichtmetallischen Werkstoffen zu ätzen. Es verfügt über eine einzigartige Eigenschaft in seiner Glas-Vakuum-Kammer, die überlegene Gleichmäßigkeit, einheitliche Ätztiefen und ausgezeichnete Bearbeitungsraten bietet. Vektor verfügt über Software verbesserte Lichtbogen für verbesserte Prozesssteuerung und Wiederholbarkeit sowie ein automatisiertes Werkzeug durch eine grafische Benutzeroberfläche gesteuert. Diese Software ermöglicht Anpassungen von Druck und Temperatur für bestimmte Anwendungen und es gibt vordefinierte Ätzprozesse, die für Routineaufträge eingestellt und aufgerufen werden können. NOVELLUS Vector verfügt außerdem über ein Gasabsperrventil zum schnellen Abschalten des Ätzprozesses und eine vibrationsarme Umgebung, die Mikroätz- und Musterverformungen reduziert. Dies ermöglicht verbesserte Ätzraten, Gleichmäßigkeit und Genauigkeit. Vector enthält eine Multi-ION-Quelle und einen Robotersubstrat-Handler, mit dem bis zu 3 Substrate gleichzeitig verarbeitet werden können. Es verfügt auch über eine Mehrkammerfähigkeit, so dass Benutzer in verschiedenen Vakuumkammern ätzen und aschen können. NOVELLUS Vector ist in der Lage, eine Vielzahl von Substraten zu handhaben, einschließlich Wafer, Metall und Glas. Vector enthält auch Wafer Ebenheitskontrolle und ein Fremdpartikel-Inspektionssystem, das Fremdpartikel identifiziert und bei Bedarf verarbeitete Substrate zurückweist, um den Anwendern die höchste Ertragsumgebung zu gewährleisten. Die Temperaturkontrollzone und das Prozessgasmanagement von NOVELLUS Vector bieten eine stabile Plasmaumgebung und hervorragende Ätz-/Ascheeigenschaften. Ein zusätzliches chemisches Bad kann auch für zusätzliche Ätz- und Ascheoperationen verwendet werden. Vector ist eine fortschrittliche Ätz-/Ascheeinheit, die für die Elektronikindustrie entwickelt wurde und den Anwendern eine breite Palette von Funktionen bietet, die eine überlegene Prozesssteuerung und Wiederholbarkeit für eine Vielzahl von Materialien bieten. Seine Mehrkammerfähigkeit, softwareverbesserte Lichtbogenkontrolle und Fremdpartikelinspektionsmaschine bieten Anwendern ein leistungsstarkes und zuverlässiges Werkzeug für ihre Ätz-/Aschebedürfnisse.
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