Gebraucht OXFORD Micro-dep 300 #293740502 zu verkaufen

OXFORD Micro-dep 300 ist ein modernes Ätzer/Ascher-Gerät, das in verschiedenen Branchen wie Halbleitern, Mikroelektronik, MEMS und Photonik für präzise Materialabtragungsprozesse weit verbreitet ist. Diese hochmoderne Ausrüstung bietet außergewöhnliche Leistung, Wiederholbarkeit und Prozesskontrolle und ist somit eine bevorzugte Wahl für Forschung und Entwicklung sowie für Serienanwendungen. Eines der Hauptmerkmale von Micro-dep 300 ist die fortschrittliche Plasmabearbeitung, die ein präzises und gleichmäßiges Ätzen/Aschen verschiedener Materialien wie Silizium, Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, Metalle und dielektrische Schichten ermöglicht. Dieses System arbeitet nach den Prinzipien des reaktiven Ionenätzens (RIE) und der plasmaverbesserten chemischen Dampfabscheidung (PECVD), wodurch Anwender hochanisotrope Ätzprofile mit minimaler Seitenwandrauhigkeit und ausgezeichneter Selektivität erzielen können. OXFORD Micro-dep 300 ist mit einer robusten Vakuumkammer, Hochleistungs-HF-Plasmaquelle, Gasfördereinheit und präzisen Temperaturregelmechanismen ausgestattet, um eine hoch kontrollierte Prozessumgebung zu schaffen. Die Vakuumkammer sorgt für Niederdruckbedingungen bei der Plasmaerzeugung, während die HF-Plasmaquelle die Prozessgase effizient zu einem energetischen Plasma anregt. Die Gasfördermaschine ermöglicht eine präzise Steuerung von Ätzgasen wie SF6, CF4, O2 und Ar, so dass Anwender die Ätzchemie an ihre spezifischen Anforderungen anpassen können. Darüber hinaus verfügt Micro-dep 300 über fortschrittliche Plasma-Diagnosetools wie optische Emissionsspektroskopie (OES) und Massenspektrometrie zur Überwachung und Analyse der Plasmaeigenschaften in Echtzeit. Diese Fähigkeit ermöglicht es Benutzern, Prozessparameter zu optimieren, gewünschte Ätzraten, Selektivitäten und Einheitlichkeit zu erreichen und Prozessprobleme effizient zu beheben. Das Tool beinhaltet auch eine benutzerfreundliche Oberfläche mit intuitiver Software-Steuerung für einfache Bedienung und Rezept-Management. Benutzer können mehrere Prozessrezepte programmieren und speichern, wichtige Parameter wie Leistung, Druck, Gasflussraten und Temperatur anpassen und den Prozessverlauf über eine grafische Benutzeroberfläche überwachen. Darüber hinaus bietet OXFORD Micro-dep 300 umfassende Tools zur Datenerfassung und -analyse, die es Anwendern ermöglichen, Prozesstrends zu verfolgen, Abweichungen zu erkennen und die Prozessleistung für mehr Produktivität und Ertrag zu optimieren. In Bezug auf die Leistung liefert Micro-dep 300 hohe Ätzraten, ausgezeichnete Gleichmäßigkeit über den Wafer und überlegene Ätzselektivität, wodurch es für eine breite Palette von Anwendungen geeignet ist, die eine präzise Materialabtragung erfordern. Ob per Ionenbeschuss für physikalisches Ätzen oder reaktive Arten für chemisches Ätzen, das Asset bietet Anwendern die Flexibilität, gewünschte Ätzprofile und Oberflächenveredelungen zu erzielen. Insgesamt ist OXFORD Micro-dep 300 ein vielseitiges und zuverlässiges Ätz-/Aschermodell, das den hohen Anforderungen moderner Halbleiter- und Mikroelektronik-Fertigungsprozesse gerecht wird. Dank der fortschrittlichen Plasmabearbeitungsfunktionen, der präzisen Steuerung und der benutzerfreundlichen Oberfläche können Forscher und Hersteller überlegene Prozessergebnisse erzielen, die Geräteleistung optimieren und Innovationen im Bereich der fortschrittlichen Materialbearbeitung vorantreiben.