Gebraucht OXFORD Plasmalab 100-ICP 180 #293765810 zu verkaufen

OXFORD Plasmalab 100-ICP 180 ist eine Ätz-/Aschermaschine, die für eine hochauflösende, wiederholbare und zuverlässige Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien entwickelt wurde. Es ist ein einzelnes Wafer-Dual-Pocket-System mit einer maximalen Substratgröße von 200mm (8 „) und einer minimalen Substratgröße von 150mm (6“). Es verwendet induktiv gekoppelte Plasma (ICP) -Quellentechnologie für fortschrittliche Ätz-/Aschetechniken und ist in der Lage, Ätzraten bis zu 100 Nanometer pro Minute zu erreichen. Der Kern der Einheit besteht aus einer fortschrittlichen Gasfördermaschine, einer induktiv gekoppelten ICP-Plasmaquelle, einem leistungsstarken HF-Generator, einer Vakuumpumpe und einer Steuereinheit. Das Tool wurde entwickelt, um die einfache Integration mehrerer Prozesse wie Fotolackstreifen, Ätzen, Aschen und mehr zu ermöglichen. Das Dual-Pocket-Design ermöglicht es Benutzern, schnell Kammern für verschiedene Prozesse auszutauschen sowie die doppelseitige Verarbeitung zu unterstützen. Darüber hinaus unterstützt die Anlage eine breite Palette von Gasen und deren entsprechende Prozesse, darunter Ar, F2, O2, CF4, CHF3, SF6 und mehr. Das Modell bietet auch Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit durch fortschrittliche Plasmakontrolltechniken. OXFORD PLASMALAB 100/ICP 180 verfügt über eine fortschrittliche Temperaturregelung für beide Kammern, die es Anwendern ermöglicht, während des gesamten Ätz-/Ascheprozesses eine stabile Temperatur aufrechtzuerhalten. Das Gerät bietet zudem programmierbare Gasflusseinstellungen und ermöglicht es dem Anwender, die Prozessparameter präziser als je zuvor einzustellen und abzustimmen. Das System ist vollautomatisiert und wird über eine benutzerfreundliche Touchscreen-Oberfläche gesteuert. Es bietet integrierte Softwarepakete für Benutzerfreundlichkeit und zuverlässige Leistung. Die Einheit kann auch in bestehende Fertigungssysteme und Netzwerke für einen zuverlässigen, effizienten Prozess integriert werden. Plasmalab 100-ICP 180 ist ideal für den Einsatz in der Halbleiter-, Unterhaltungselektronik-, Solar- und MEMS-Fertigung. Es ist sehr zuverlässig und bietet höchste Kontrolle für fortgeschrittene Prozesse. Mit seiner fortschrittlichen Technologie, der außergewöhnlichen Temperaturregelung und der starken Prozesswiederholbarkeit ist PLASMALAB 100/ICP 180 eine ausgezeichnete Wahl für fortschrittliche Ätz-/Ascheprozesse in hochauflösenden Anwendungen.