Gebraucht OXFORD Plasmalab 100-ICP 180 #293807546 zu verkaufen
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ID: 293807546
Wafergröße: 4"-6"
Etching system, 4"-6"
Type: III-V, II-VI
Gas configuration: CH4, H2, BCl3, Cl2, Ar, O2, SF6
Used for GaN, GaOx, and GaAs, and associated compound semiconductors
(1) ALKATEL 2063 C2 Oil Perfluoropolyether (PFPE) Pump
(1) ALKATEL 2015 Oil Perfluoropolyether (PFPE) Pump
BETTA-TECH CU50 Chiller.
OXFORD Plasmalab 100-ICP 180 ist ein hochentwickelter Ätzer/Ascher von OXFORD Instruments. Es ist für großflächige und tiefätzende Transistoren mit hoher Elektronenmobilität (HEMTs), fortschrittliche mikroelektronische Chips und die Integration von Geräten auf Waferebene konzipiert. Dieses System bietet vollständige Kontrolle über die Ätz- und Ascheparameter wie Ätzzeit und -größe, Richtung, Leistung, Druck und Gasreinheit mit einer direkt angetriebenen Wafer-Handhabungseinheit, die Ergebnisse höchster Genauigkeit und Effizienz gewährleistet. OXFORD PLASMALAB 100/ICP 180 ist mit einer hocheffizienten, leistungsstarken induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP) ausgestattet, die in der Lage ist, einen kurzzeitigen Plasmapuls zu erzeugen, der ionisierte Partikel erzeugt. Dieses Merkmal verringert die Ätzrate, die normalerweise beim Ätzen großer Flächen zu sehen wäre. Darüber hinaus bietet es eine überlegene Gleichmäßigkeit des Ätzens über die gesamte Waferoberfläche. Plasmalab 100-ICP 180 besitzt auch eine Wafer-Waschtischkühlmaschine. Dies ermöglicht einen schnellen Kühlprozess, der die durch den Ätzprozess entstehende Abwärme sammelt und so die Integrität der Materialien während des Verfahrens garantiert. Darüber hinaus bietet es ausgezeichnete Ätzwinkel und Maßhaltigkeit über den gesamten Wafer. PLASMALAB 100/ICP 180 bietet beim Ätzen von Gasen eine Reihe präziser Gemische aus Fluorwasserstoff/Kohlendioxid-Gemischen, SF6/SF4 Gemischen und Bortrifluorid/Argon-Gemischen. Dadurch kann der Anwender eine hohe Gleichmäßigkeit der Ätzrate entlang der Waferlinie erreichen, wodurch eine verbesserte Formgenauigkeit und auch schärfere Profilkanten erzielt werden. Um genaue Ergebnisse zu liefern, ist OXFORD Plasmalab 100-ICP 180 mit einer fortschrittlichen Drucksteuerung und Vakuumkammerüberwachungssystemen ausgestattet. Diese Systeme ermöglichen eine präzise Kontrolle des Drucks in der Kammer, was wiederum eine höhere Prozessgenauigkeit und Wiederholbarkeit gewährleistet. Insgesamt ist OXFORD Instruments OXFORD PLASMALAB 100/ICP 180 ein idealer Ätzer/Ascher, der eine perfekte Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit garantiert - damit der Anwender sowohl Geschwindigkeit als auch Präzision bei der Durchführung von Ätz-/Ascheanwendungen erreichen kann.
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