Gebraucht OXFORD Plasmalab 100 ICP #293663032 zu verkaufen

OXFORD Plasmalab 100 ICP
ID: 293663032
System.
OXFORD Plasmalab 100 ICP ist eine vielseitige Ätz- und Aschemaschine für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Es ist bekannt für seine zuverlässige Leistung, Wirtschaftlichkeit und einfache Bedienung. Das System verfügt über eine Doppelkammer-Konstruktion, um eine parallele Verarbeitung von Materialien zu ermöglichen, um die Bearbeitungszeiten zu verkürzen. Die Anlage umfasst eine Kohlenwasserstoffätzkammer und eine reintrockene Aschkammer. Die Kohlenwasserstoff-Ätzkammer ist für eine Reihe von Substraten wie Metallabscheidungen, Polysilizium und Glas ausgelegt. Es bietet eine maximale Temperatur von 500 ° C und ist kompatibel mit verschiedenen gasförmigen Medien wie HF, HCL, Ar und O2. Die Kohlenwasserstoffätzkammer in der Maschine bietet eine gute Selektivität und Oberflächenprofilkontrolle für Ätzprozesse. Das reintrockene Aschwerkzeug verfügt über eine Quarzrohrkonfiguration und eine integrierte HF-Plasmaquelle. Diese Kammer arbeitet bei 500 ° C und ermöglicht eine Hochgeschwindigkeitsabscheidung von Polysiliziumschichten, Siliziumoxiden und Glas. Das Asset verfügt zudem über einen eingebauten Plasma-Controller zur effizienten und präzisen Steuerung von Prozessparametern. Plasmalab 100 ICP bietet eine vereinfachte und benutzerfreundliche Schnittstelle für die Bedienung und Prozessüberwachung. Es wurde für die einfache Integration in bestehende Fertigungsprozesse konzipiert, mit einer Reihe von Rezepten und benutzerdefinierbaren Arbeitsparametern, um die Produktivität zu erhöhen. Das Modell bietet auch erweiterte Überwachungsfunktionen, einschließlich Fehlerdiagnose, Erkennung von Prozessanomalien und automatische Rezeptursteuerung. Darüber hinaus verfügt der Oxfod OXFORD Plasmalab 100 ICP über modernste Druck- und digitale Bildaufnahmetechnologien, um das Drucken und Betrachten von Wafermustern zu ermöglichen. Plasmalab 100 ICP ist eine fortschrittliche Ausrüstung zur Hochleistungs- und präzisen Steuerung von Ätz- und Ascheprozessen. Seine intuitive Software ermöglicht eine schnelle und einfache Bedienung und sein robustes Design sorgt für eine langfristig wartbare Bedienung. Dieses hochzuverlässige System eignet sich für mittelgroße und große Halbleiterherstellungsanwendungen und ist eine ideale Wahl für Labore und Forschungszentren.
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