Gebraucht OXFORD Plasmalab 80 Plus #293616592 zu verkaufen

OXFORD Plasmalab 80 Plus ist eine professionelle Ätz- und Aschemaschine zur Herstellung verschiedener mikroelektronischer Komponenten. Diese Ausrüstung bietet Anwendern eine beispiellose Präzision und Geschwindigkeit in ihren Produktionsprozessen. Plasmalab 80 Plus verwendet eine hochmoderne Plasmaerzeugungskammer, um reaktive Ionen zu produzieren; wenn diese Ionen mit dem zu ätzenden oder zu aschenden Material in Kontakt kommen, wird die Gammaschicht zwischen dem Substratmaterial und der gewünschten Oberfläche schnell und genau gelöst. Dadurch wird der Ätz- und Ascheprozess effizienter, genauer und präziser als herkömmliche Methoden. OXFORD Plasmalab 80 Plus enthält eine 25-Mikron-Plasmaquelle mit einer einstellbaren Leistungseinstellung von 0 - 1000 Watt und bis zu 30 ° C Temperatur. Es kann eine Ätzgeschwindigkeit von bis zu einem Mikron pro Minute, abhängig von den Bedingungen des Substratmaterials, bei einer minimalen Pecherosion von 2000 Nanometern erreichen. Die Maschine umfaßt auch eine Temperaturregeleinheit, die eine Anpassung der Temperatur des Ätz- oder Ascheprozesses an das Substratmaterial ermöglicht. Dadurch können Anwender die Genauigkeit und Präzision des Produktionsprozesses genau steuern. Das Prozeßgassystem von Plasmalab 80 Plus besteht aus verschiedenen gasförmigen Elementen, wie Sauerstoff (O2), Salzsäure (HCl), Schwefelhexafluorid (SF6), Stickstofftrifluorid (NF3) und anderen, die den spezifischen Prozessanforderungen verschiedener Substratmaterialien gerecht werden können. Das Gerät ist auch mit einer Vakuumeinheit ausgestattet, die es ermöglicht, das Substratmaterial schnell in die Ätz- und Aschebearbeitungsumgebung zu bringen, ohne das Material zu beschädigen. Dies erhöht die Sicherheit und Genauigkeit des Produktionsprozesses. Insgesamt ist OXFORD Plasmalab 80 Plus eine hochpräzise und effiziente Ätz- und Aschemaschine, die präzise und präzise Ergebnisse mit minimalem Abfallmaterial liefert. Seine tiefgreifenden Betriebsmerkmale und sein umfassendes Design machen es für eine Vielzahl von mikroelektronischen Fertigungsprozessen geeignet.