Gebraucht OXFORD PlasmaPro 100 Cobra #293794608 zu verkaufen

OXFORD PlasmaPro 100 Kobra ist ein innovatives Plasma etcher/asher Ausrüstung, die für fortgeschrittenen Halbleiter und mikroelektronische Gerätherstellungsprozesse entworfen ist. Dieses vielseitige Tool beinhaltet innovative Technologie, um leistungsfähige Plasmabearbeitungsfähigkeiten für eine breite Palette von Anwendungen in Forschung und Entwicklung bereitzustellen. Im Zentrum von PlasmaPro 100 Cobra steht die einzigartige Dual-Plasma-Source-Konfiguration mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP) und nachgeschalteten Plasmaquellen. Dieses Dual-Source-Design bietet eine verbesserte Prozessflexibilität und -kontrolle, sodass Benutzer die Plasmaeigenschaften an spezifische Prozessanforderungen anpassen können. Die ICP-Quelle erzeugt ein hochdichtes Plasma mit effizienten Ionisierungsfähigkeiten, während das nachgeschaltete Plasma die Prozessgleichförmigkeit und -stabilität erhöht. Das System verfügt über eine kompakte Stellfläche und eine benutzerfreundliche Oberfläche, die es sowohl für akademische als auch industrielle Forschungsumgebungen geeignet macht. Die intuitive Software-Oberfläche ermöglicht eine einfache Rezeptentwicklung und Prozessoptimierung, sodass sich Anwender schnell an veränderte Forschungsanforderungen anpassen können. Darüber hinaus optimieren die erweiterten Automatisierungsfunktionen des Geräts den Betrieb und erhöhen die Produktivität, minimieren Ausfallzeiten und maximieren den Durchsatz. OXFORD PlasmaPro 100 Cobra bietet eine breite Palette von Prozessfähigkeiten, einschließlich Ätzen, Aschen, Oberflächenmodifizierung und Reinigung. Die Maschine ist mit einer Reihe von Gasfördermöglichkeiten ausgestattet, die eine präzise Steuerung von Prozessgasen und Durchflussraten ermöglichen. Dies ermöglicht es Anwendern, eine Vielzahl von Plasmaprozessen wie isotropes und anisotropes Ätzen, Passivierung, Descumming und Resist Stripping durchzuführen. Die erweiterten HF-Leistungsmerkmale des Tools ermöglichen eine präzise Kontrolle der Plasmadichte und -energie und erleichtern die Feinabstimmung der Prozessparameter für optimale Ergebnisse. Darüber hinaus verfügt das Asset über eine Reihe von HF-Matching-Netzwerken und Tuning-Optionen, um verschiedenen Substratmaterialien und Prozessanforderungen gerecht zu werden. PlasmaPro 100 Cobra ist mit erweiterten Endpunkterkennungsfunktionen ausgestattet, die eine Echtzeit-Überwachung des Prozessfortschritts und eine präzise Kontrolle über Ätztiefen und Selektivität ermöglichen. Diese Funktion verbessert die Prozesswiederholbarkeit und -ausbeute, was zu konsistenter und zuverlässiger Geräteleistung führt. Hinsichtlich der Modellsicherheit und Zuverlässigkeit ist OXFORD PlasmaPro 100 Cobra mit robusten Materialien und Komponenten ausgestattet, um langfristige Leistung und Betrieb zu gewährleisten. Die Ausrüstung umfasst fortschrittliche Sicherheitsverriegelungen und Überwachungssysteme, um Prozessabweichungen zu vermeiden und den Benutzerschutz zu gewährleisten. Insgesamt stellt PlasmaPro 100 Cobra eine hochmoderne Lösung für die Plasmabearbeitung bei der Herstellung von Halbleitern und mikroelektronischen Bauelementen dar. Mit seiner innovativen Dual-Plasma-Source-Konfiguration, erweiterten Automatisierungsfunktionen und vielseitigen Prozessoptionen bietet dieses System beispiellose Flexibilität, Kontrolle und Leistung für eine breite Palette von Forschungs- und Entwicklungsanwendungen.