Gebraucht PLASMA ETCH PE-100 #9281671 zu verkaufen

Hersteller
PLASMA ETCH
Modell
PE-100
ID: 9281671
System.
PLASMA ETCH PE-100 ist eine Ätz- und Aschevorrichtung zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es wird von PLASMA ETCH, Inc. entwickelt und wird häufig bei der Herstellung von Photolithographie verwendet. Das System ist für die Verarbeitung von Wafergrößen von 4 Zoll (10 cm) bis zu 6 Zoll (15 cm) ausgelegt. Es ist ein Mehrzweckätzer/Ascher, der in der Lage ist, Trockenätz-, Asche- und Dünnschichtabscheidungsprozesse in einer Einheit durchzuführen. Die Maschine bietet Hochgeschwindigkeits-Gleichmäßigkeit, die durch die Verwendung einer eingebauten Dual-Source-Prozesskammer erreicht wird, die für Sauerstoff-Plasma-Ätzen oder Aschen verwendet werden kann. Diese Prozesskammer kann auf Ätzrate, Selektivität und Gleichmäßigkeit optimiert werden. Darüber hinaus verfügt PE-100 über eine fortschrittliche Vakuumtechnologie, die hervorragende Pump- und Prozesssysteme für Hochgeschwindigkeits-, gleichmäßiges Dampfätzen und Aschen mit konsistenten Ergebnissen bietet. Es ist auch in der Lage, eine präzise Temperaturregelung, die eine gleichmäßige und kontrollierte Substrat Oberfläche führt. Es kann sogar für fortgeschrittene Anwendungen wie Kristallisation und Kohlenstoff-langsameres Ätzen verwendet werden. PLASMA ETCH PE-100 verfügt zudem über einen automatisierten Lastverschlussmechanismus, der Wafer für schnelle Wendezeiten problemlos in und aus dem Werkzeug transportiert. Es verfügt auch über integrierte Sicherheitsfunktionen, wie einen Low-Flow-Alarm und einen Stop-Sicherheitsschalter, um Unfälle zu vermeiden. Es ist auch für einfache Bedienung und Wartung konzipiert, mit leicht anzuzeigenden Steuerungs- und Datenansichten. PE-100 ist ein kostengünstiges und sehr zuverlässiges Gut, das in der Lage ist, optimale Ergebnisse zu erzielen, so dass es für die Anwendung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen geeignet ist. Es ist in der Lage, genaue und effiziente Ätz- und Ascheleistungen zu erzielen und gleichzeitig eine breite Palette von Materialverarbeitungsfunktionen bereitzustellen.
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