Gebraucht PLASMATECH RIE-80 #293592300 zu verkaufen

PLASMATECH RIE-80 ist ein Ätzer/Ascher wird häufig zum Ätzen und Aschen von Halbleiterscheiben verwendet. Dieses anspruchsvolle System kombiniert fortschrittliche Prozesse und Technologien, was es zu einer beliebten Wahl bei Ingenieuren, Fachleuten und Ingenieuren macht. RIE-80 basiert auf einer thermisch stabilen Hardware und einer fortschrittlichen und einfach zu bedienenden Steuerungssoftware. Es ist mit einer induktiv angetriebenen 3-Hohlraum-Plasma-Technologie ausgestattet, die es ermöglicht, Materialien in einer Vielzahl von Anwendungen und Materialien zu ätzen, zu aschen und abzulegen. Die automatisierte Computersteuerung des gesamten Systems sorgt für ein nahtloses Benutzererlebnis und sorgt für höchste Ergebnisqualität bei jedem Zyklus. Die Leistung der induktiven Quelle liegt zwischen 20 und 200 Watt und wird durch die digitale Laserleistungsregelung gesteuert. Dies gewährleistet eine präzise und konsistente Ätzung/Veraschung. PLASMATECH RIE-80 ist zudem mit einem dreidimensionalen digitalen Gaskrümmer und geätztem Materialaufnehmer ausgestattet, der eine bessere Effizienz und schnellere Programmierung ermöglicht. Es verfügt über eine automatisierte Überwachungs- und Probenahmekomponente für optimale Leistung. Diese Komponente stellt sicher, dass die Parameter und Einstellungen immer im akzeptablen Bereich liegen und nicht überschritten werden. Die von RIE-80 durchgeführten Ätzungen weisen eine flache, raue und ungleichmäßige Oberfläche mit hohem Aspektverhältnis auf, die alle in einem modernen Halbleiterherstellungsprozess wünschenswert sind. Dieses System erfüllt auch strenge Anforderungen an die Umwelt- und Sicherheitsanforderungen, einschließlich automatischer Ofenabschaltung, gleichmäßiger Temperatur und niedrigem Energieverbrauch. Obwohl PLASMATECH RIE-80 weithin für seine qualitativ hochwertigen Ätz- und Ascheprozesse bekannt ist, bleiben seine Anwendungen dort nicht stehen. Dank seiner Flexibilität und Vielseitigkeit kann es für verschiedene andere Prozesse wie chemische Dampfabscheidung (CVD), physikalische Dampfabscheidung (PVD), Sputtern und sogar reaktives Ionenätzen (RIE) eingesetzt werden. Insgesamt ist RIE-80 eine robuste, vielseitige, präzise und hocheffiziente Ätz-/Ascherlösung, die jedes Mal zuverlässige und präzise Ergebnisse liefern kann. Es ist anspruchsvolle Hardware und Software machen es die perfekte Wahl für Profis und Ingenieure-in-Training.