Gebraucht PLASMATHERM 770 ICP #9156791 zu verkaufen

PLASMATHERM 770 ICP ist eine Ätz-/Aschemaschine, die die schnelle, zuverlässige und wirtschaftliche Herstellung fortschrittlicher Halbleiterprodukte ermöglicht. Das System kombiniert Niederdruck-Plasmabearbeitung, hochpräzise Gaseinlasssysteme und digitale Temperaturregelung, um präzise und wiederholbare Ergebnisse zu ermöglichen. Es ist in der Lage, adressierbare Auflösungen von 10um zu erreichen und verfügt über eine breite Palette von Prozessparametern und Fähigkeiten, so dass es sowohl für Produktions- als auch für Forschungsanwendungen geeignet ist. 770 ICP Ätz-/Ascher-Einheit kann sowohl für Wafer und Nicht-Wafer-Ätzanwendungen verwendet werden, einschließlich Silizium, organische Filme, Keramik, Glas, Vakuum-Abscheidung und MEMS. Mit seinem Unterdruckplasmaprozess und Plasmaquellen „Hochspannungsmacht“ wird es entworfen, um die gewünschte Ätzenprozessgleichförmigkeit mit dem minimalen materiellen Schaden und der Verunreinigung zu erreichen. Dies macht es ideal für eine Reihe von Anwendungen, wie Gate-Ätzen, durch Ätzen, Fin-Ätzen und Strippen widerstehen, sowie Umgebungsreinigung und Sputtern. Die Maschine ist mit einem hochpräzisen Gaseinlasswerkzeug mit bis zu drei Gasleitungen und einem integrierten Druckregler ausgestattet. Es ist auch mit einem digitalen Temperaturregler ausgestattet, der eine genaue und wiederholbare Temperaturregelung ermöglicht. Dadurch wird sichergestellt, dass die gewünschten Ätzprozessbedingungen erreicht und eingehalten werden. PLASMATHERM 770 ICP Ätzer/Ascher Asset ist aufgrund seines einfachen und intuitiven Designs einfach zu bedienen und zu warten. Es verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, mit der Benutzer die Ätzprozesse schnell programmieren und steuern können. Das Modell verfügt auch über eingebaute Sicherheitsfunktionen, um Unfallschäden und Kontaminationen zu vermeiden, sowie eine Fernbedienung für eine einfache Bedienung aus der Ferne. 770 ICP Ätz-/Ascher-Geräte stellen die ultimative Ätztechnologie dar, die eine schnelle, zuverlässige und wirtschaftliche Produktion fortschrittlicher Halbleiterprodukte ermöglicht. Es ist eine ideale Wahl für Hersteller und Forschungszentren, die nach einer fortschrittlichen Ätzlösung suchen.