Gebraucht PLASMATHERM 790 RIE #9055603 zu verkaufen

Hersteller
PLASMATHERM
Modell
790 RIE
ID: 9055603
Weinlese: 1994
Reactive ion etcher Electrode, 8" RIE (lower electrode only) RFPP - RF5S power supply Leybold 151C turbo, Neslab RTE 111 chiller (6) MKS MFCs, Non-clorine based system with N2 purge End point detector Plasmatherm windows OS 208V, 3 Phase, 60Hz 1994 vintage.
PLASMATHERM 790 RIE oder reaktives Ionenätzgerät ist ein hochmodernes kristallines Struktur- und Dünnschichtätzsystem, das die höchsten Anforderungen an moderne Halbleiterverarbeitungsanwendungen erfüllt. Es ist benutzerfreundlich gestaltet und bietet eine hohe Prozessreproduzierbarkeit. 790 RIE verwendet einen gasunterstützten Ätzprozess, der mehrere Ätzparameter in einer Einheit kombiniert. Dadurch erhält der Benutzer die totale Kontrolle über den Ätzvorgang. Benutzer können alle Parameter, einschließlich HF-Plasmaleistung, Druck, Gassteuerung und Temperatur, einfach einstellen und überwachen. Die Maschine verfügt über eine Vakuumkammer mit einer leckfreien Struktur, die eine völlig anaerobe Umgebung gewährleistet. Dies ermöglicht eine hohe Wiederholbarkeit des Ätzprozesses. Darüber hinaus kann der Anwender alle Komponenten des Prozesses jederzeit einstellen und steuern. PLASMATHERM 790 RIE kann Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 4 Zoll aufnehmen und verwendet Materialien von Metallen und Legierungen bis hin zu Keramik, Quarz und organischen Substanzen. Es ist auch in der Lage, dünne Filme, komplexe Strukturen und Strukturen mit hohem Seitenverhältnis wie Löcher und Stufenkristalle zu verarbeiten. Das Tool ist mit modernster Elektronik, einem Computer/Benutzeroberfläche und integrierten Sicherheitsprogrammen ausgestattet. Diese technologischen Innovationen ermöglichen eine präzise Steuerung der Parameter während des Ätzprozesses. 790 RIE bietet zuverlässige, qualitativ hochwertige Ergebnisse. Durch seine einzigartige Verfahrenstechnik, die hohe Selektivität mit hoher Genauigkeit verbindet, erreicht er eine hohe Gesamtprozessqualität. Darüber hinaus bietet sein breites Parameterspektrum hervorragende Ätzbedingungen für eine Vielzahl von Materialien und Substraten und sorgt durch sein benutzerfreundliches Design für eine perfekte Kontrolle des Prozesses. Diese Eigenschaften machen es zu einem erstklassigen Werkzeug für viele Branchen, die fortschrittliche Halbleiterprodukte herstellen.
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