Gebraucht PLASMATHERM 790 #293800249 zu verkaufen
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ID: 293800249
Weinlese: 1997
Reactive Ion Etcher (RIE)
Type: Single-chamber
1997 vintage.
PLASMATHERM 790 Serie ist ein fortschrittlicher Ätzer und Ascher, der in Halbleiterherstellungsanwendungen für eine Vielzahl von Materialien verwendet wird. Es ist eine Mehrkammer-Ätzausrüstung, die fünf Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll/200 mm verarbeiten kann. Es verfügt über drei Kammern, die eine hohe Prozessflexibilität bieten, einschließlich Tieftemperaturätzen, Hochtemperaturätzen und Aschen. Die Prozessfähigkeit des Systems umfasst Ätzraten bis zu 20 μ m/h und Ätztiefen bis zu 18 μ m. 790 Serie ist mit einer fortschrittlichen Plasmaquelle ausgestattet, um maximale Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit für alle Ätz- und Ascheprozesse zu gewährleisten. Hochfrequenznetzteile, die eine fortschrittliche Plasmasteuerung unterstützen, ermöglichen es Benutzern, die Plasmaparameter in der Ätzkammer genau zu steuern. Darüber hinaus verfügt das Gerät über erweiterte Überwachungs- und Steuerungsfunktionen wie Rückkopplung der Plasmaparameter, Endpunkterkennung und automatische Waferausrichtung. Die Maschine wurde entwickelt, um die strengen Umwelt- und Sicherheitsanforderungen der Halbleiterherstellungsanlagen zu erfüllen. Es kann in reinen Umgebungen der Klasse 1 mit einstellbarem Strom von sauberem Trockengas, positiver Druckisolierung und schnellem Gasaustausch arbeiten. Das Werkzeug ist außerdem mit einer Gasfilteranlage ausgestattet, um einen optimalen Schutz vor Prozessverschmutzung zu gewährleisten. Das Modell ist kompatibel mit einer Reihe von Chemikalien, einschließlich Argon, Helium, Stickstoff und Sauerstoff, sowie einer Reihe von Ätz- und Aschematerialien, wie Si, GaAs, Polyimid, Metallen und Photoresists. So können Anwender bei minimalen Rüstzeiten schnell zwischen verschiedenen Ätzprozessen und Materialien wechseln. Die PLASMATHERM 790 Serie bietet eine vielseitige, effiziente und zuverlässige Ätzausrüstung für Halbleiterherstellungsanwendungen. Seine breite Palette an Chemikalien und Ätzmaterialien kombiniert mit seiner fortschrittlichen Plasmaquelle und flexiblen, leistungsstarken Funktionen machen es zu einer großen Wahl für anspruchsvolle Halbleiterumgebungen.
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