Gebraucht PLASMATHERM Dual 790 #293815789 zu verkaufen

PLASMATHERM Dual 790 ist eine hochmoderne Ätz- und Aschemaschine für präzise und effiziente Plasmabearbeitungsanwendungen in der Halbleiterindustrie. Dieses erweiterte Tool integriert Dual-Mode-Funktionalität, so dass sowohl Ätz- als auch Ashing-Prozesse auf einer einzigen Plattform durchgeführt werden können. Das System bietet eine beispiellose Flexibilität und Kontrolle über die Plasmaparameter und ist damit eine vielseitige Lösung für eine Vielzahl von Geräteherstellungsprozessen. Kern von Dual 790 ist seine hochdichte Plasmaquelle, die energetische Spezies erzeugt, die für das Ätzen und Aschen verschiedener Materialien essentiell sind. Das Gerät nutzt fortschrittliche Hochfrequenz (RF) -Plasmatechnologie, um eine hochgleichmäßige und stabile Plasmaumgebung zu schaffen, die konsistente Prozessergebnisse über die gesamte Substratoberfläche gewährleistet. Die HF-Plasmaquelle produziert eine breite Palette von reaktiven Arten, die ein selektives Ätzen und Aschen verschiedener Materialien mit Präzision und Genauigkeit ermöglichen. Eines der Hauptmerkmale des PLASMATHERM Dual 790 ist der Dual-Mode-Betrieb, der ein nahtloses Umschalten zwischen Ätz- und Ascheprozessen ohne Maschinenrekonfiguration ermöglicht. Diese Fähigkeit verschlankt nicht nur den Prozessablauf, sondern maximiert auch den Werkzeugeinsatz und die Produktivität. Das Tool bietet eine große Auswahl an Prozessgasen und Parametern, so dass Benutzer die Plasmabedingungen an die spezifischen Anforderungen für jeden Bearbeitungsschritt anpassen können. Dual 790 ist mit einer ausgeklügelten Gasförderanlage ausgestattet, die eine präzise Kontrolle der Gasströmungen und -gemische gewährleistet. Dieses Modell ermöglicht die Erstellung komplexer Gaschemien, die für fortgeschrittene Plasmaprozesse wie Tiefenreaktives Ionenätzen (DRIE) und Oberflächenmodifizierung erforderlich sind. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug über erweiterte Kammerdesign und Pumpen Ausrüstung für schnelle Gasevakuierung und effiziente Plasmabearbeitung. Das System verfügt über eine hochmoderne Temperaturregeleinheit, um die Substrattemperatur während der Verarbeitung in einem engen Bereich zu halten. Dieses Merkmal ist entscheidend, um thermische Schäden an empfindlichen Materialien zu vermeiden und reproduzierbare Ergebnisse bei Ätz- und Aschevorgängen zu gewährleisten. Das Tool bietet auch umfassende Endpunkterkennungsfunktionen, die eine Echtzeit-Überwachung des Prozessfortschritts und eine genaue Bestimmung der Prozessabwicklung ermöglichen. PLASMATHERM Dual 790 kommt mit einer benutzerfreundlichen Schnittstelle und erweiterte Software-Steuerung, so dass es einfach zu programmieren und komplexe Plasmaprozesse ausführen. Die Maschine bietet eine Reihe von Diagnose- und Überwachungstools zur Prozessoptimierung und Fehlerbehebung, zur Verbesserung der Benutzererfahrung und der Werkzeugleistung. Darüber hinaus ist das Werkzeug für hohen Durchsatz und Zuverlässigkeit ausgelegt, so dass es sowohl für F&E als auch für Produktionsumgebungen geeignet ist. Zusammenfassend ist Dual 790 ein vielseitiges und fortschrittliches Ätz-/Ascher-Tool, das Dual-Mode-Betrieb, präzise Plasmasteuerung und erweiterte Prozessfähigkeiten für eine breite Palette von Halbleiterverarbeitungsanwendungen bietet. Mit modernster Technologie und benutzerfreundlichem Design eignet sich dieses Werkzeug gut für anspruchsvolle Fertigungsprozesse in der Halbleiterindustrie.