Gebraucht PLASMATHERM Gen 4 Mask IV #9304311 zu verkaufen

ID: 9304311
Plasma etchers (3) Chambers Mask size: 152mm SMIF pod loader Buffer station Load Module (LM) Transfer Module (TM) Types of pods: RSP types - ENTEGRIS PEEK pod, GUDENG PEEK pod and ENTEGRIS ABS pod Buffer station: Mask staging with positive air flow mini environment Operating system: Windows NT (3) Process modules (PM): PM1, PM2, PM3 Module: Gen4 Process: Quartz (PM1), MoSi (PM2), Chromium (PM3) SEIKO SEIKI Turbo pump Turbo size: 1300 L/sec PM1: Channel / DET41 / MFC sccm CH-01 / SF6 / 5 CH-02 / He / 100 CH-03 / O2 / 200 CH-04 / N2 / 150 CH-05 / Ar / 200 CH-06 / CF4 / 100 CH-07 / CHF3 / 200 CH-08 / H2 / 100 PM2: Channel / DET42 / MFC sccm CH-01 / SF6 / 100 CH-02 / He / 100 CH-03 / O2 / 20 CH-04 / N2 / 150 CH-05 / Ar / 100 CH-06 / CF4 / 100 CH-07 / N2 / 100 CH-08 / N2 / 100 PM3: Channel / DET43 / MFC sccm CH-01 / CL2-toxic / 200 CH-02 / He / 100 CH-03 / O2 / 50 CH-04 / N2 / 150 CH-05 / Ar / 25 CH-06 / N2 / 100 CH-07 / N2 / 100 CH-08 / N2 / 100.
PLASMATHERM Gen 4 Mask IV ist ein hochmoderner Ätzer/Ascher zur Erzielung präziser Ätz- und Ascheergebnisse auf einer Vielzahl von Materialien und Substraten. Diese Maschine ist ideal für die Herstellung hochwertiger geätzter und aschierter Komponenten und bietet überlegene Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Gen 4 Mask IV verfügt über ein LCD-Touchscreen-Display, mit dem Benutzer verschiedene Prozessparameter wie Gasart, Druck und Zeit steuern können. Darüber hinaus verfügt die Maschine über automatisierte Steuerungssysteme, die einfach nach den spezifischen Bedürfnissen jedes Projekts programmiert werden können. PLASMATHERM Gen 4 Maske IV ist mit einer modernen Gasausrüstung im Venturi-Stil ausgestattet, die Gleichmäßigkeit und Präzision der Gasdurchflussraten und Temperaturen gewährleistet, die erforderlich sind, um konsistente Ergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus ist die Maschine mit fortschrittlichen Plasmaquellensystemen ausgestattet, die überlegene Ätz- und Aschegeschwindigkeiten bieten, um die Durchlaufzeiten zu reduzieren. Darüber hinaus wurde Gen 4 Mask IV entwickelt, um Plasmaschäden am Substrat zu minimieren und maximale Prozessgenauigkeit und hohe Produktionsausbeuten zu ermöglichen. PLASMATHERM Gen 4 Maske IV enthält auch eine einzigartige Multi-Ventil thermische Regelung, die Benutzer aus mehreren vordefinierten Temperaturprofilen wählen können. Das Gerät ist mit einem breiten Temperaturbereich von 0-200 ° C ausgelegt, der Anwendern die Flexibilität bietet, die perfekten Bedingungen für ihre Ätz- und Veraschungsanforderungen zu schaffen. Darüber hinaus ist Gen 4 Mask IV extrem einfach zu installieren und zu bedienen. Die intuitive Benutzeroberfläche sorgt für eine effiziente Bedienung, so dass Benutzer schnell und einfach auf alle erforderlichen Informationen zugreifen können, um ihre Projekte auf den Weg zu bringen. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer fortschrittlichen Luftkühlmaschine ausgestattet, die Betriebstemperaturen reduziert, um die Ausbeute zu erhöhen und die Prozessstabilität zu verbessern. PLASMATHERM Gen 4 Maske IV ist ein idealer Ätzer und Ascher, um präzise Ätz- und Ascheergebnisse auf einer Vielzahl von Materialien und Substraten zu erzielen. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und dem benutzerfreundlichen Design bietet diese Maschine Anwendern die Flexibilität und Genauigkeit, die erforderlich sind, um hochwertige Komponenten zu erstellen, die ihren genauen Spezifikationen entsprechen.
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