Gebraucht PLASMATHERM Gen 4 Mask IV #9386140 zu verkaufen

PLASMATHERM Gen 4 Maske IV ist ein Ätzer und Ascher in einer Vielzahl von industriellen Anwendungen verwendet. Es wurde entwickelt, um mit einer Vielzahl von Materialien zu arbeiten, um Lösungen für Präzisionsätz- und Ascheprozesse bereitzustellen. Es verfügt über einen eingebauten HF/DC-Generator, der eine Hochleistungsätzung mit einem breiten Prozessfenster und geringem Gasverbrauch ermöglicht. Dieser Ätzer und Ascher verfügt auch über einen verstellbaren Substrathalter, wodurch er sowohl für flache als auch für erhöhte Substrate geeignet ist. Der Ätzer und Ascher verwendet eine maximale Maskengröße von 13,5 x 13,5 Zoll und einen anpassbaren Substrathalter mit einem Freiraum von bis zu 0,4 Zoll. Der Substrathalter sorgt für eine präzise Handhabung und Positionierung des Substrats während des Ätz- und Aschevorgangs. Es verfügt über einen pneumatischen Dichtungs- und Türöffner-Mechanismus, um eine ordnungsgemäße Abdichtung zu gewährleisten, sowie eine integrierte HF-Stromversorgung für optimale HF-HF-Ätzprozesse von 4 - 200W. Gen 4 Mask IV verfügt auch über eine fortschrittliche PLASMATHERM Vision Control Equipment für benutzerfreundliche Einrichtung und Bedienung. Dieses System zeigt Parameter für die Echtzeit-Ätzprozesssteuerung an, die eine präzise Prozesssteuerung wie Mikrowellenleistung, Abtastrate usw. ermöglichen. Darüber hinaus verfügt es über eine eingebaute OCR-Zusatzeinheit für die Lokalisierbarkeit von Substraten. Diese Maschine ermöglicht es, Ziele auf Substraten automatisch zu lokalisieren, indem Bilder von mehrschichtigen Platten mit einem datengesteuerten Ansatz analysiert werden. PLASMATHERM Gen 4 Maske IV kommen mit einer optionalen Remote-Panel-Schnittstelle für die Fernbedienung zur Verfügung, sowie ein Rezept-Management-Tool, das die Speicherung und Abruf von Ätzrezepten ermöglicht, so dass Benutzer frühere Rezepte zurückrufen und Einstellungen anpassen, um den Ätz- und Aschvorgang zu optimieren. Der Betriebstemperaturbereich des Ätzers und Aschers ist 0-35C und eignet sich somit für eine Vielzahl von Prozessen. Insgesamt ist Gen 4 Mask IV eine hochqualitative Ätz- und Aschelösung für eine Vielzahl von industriellen Anwendungen. Dank seiner benutzerfreundlichen Bedienung und einer Reihe fortschrittlicher Funktionen ist es die ideale Lösung für präzise Ätz- und Ascheprozesse.