Gebraucht PLASMATHERM SLR 730 #293663368 zu verkaufen

Hersteller
PLASMATHERM
Modell
SLR 730
ID: 293663368
PECVD System Controller Single chamber with loadlock Gas configuration: Silicon oxide Silicon nitride Silane Nitrous oxide Ammonia Sulfur hexafluoride Operating system: Windows 95.
PLASMATHERM SLR 730 ist eine Plasmaätz- und Aschereinrichtung für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Es verfügt über ein fortschrittliches Design mit einer modularen Prozesskammer, die eine sehr hohe Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bietet. Dieses industrielle Gerät eignet sich sowohl für Ätz- als auch für Ascheanwendungen und eignet sich ideal für Ätzprozesse auf schmalen Geometrien bis zu 0,08 µm. Die Prozesskammer ist aus einem patentierten Material aufgebaut, das eine überlegene Beständigkeit gegen Korrosion und Handhabung bietet. Es verfügt auch über einen vertieften, austauschbaren Wassermantel für eine verbesserte Substratkühlung. Die Prozesskammer umfasst eine robuste Ätz-/Ascheplatte und ein elektrostatisches Spannfutter zur wiederholbaren Substratklemmung mit minimierten Anfälligkeiten. Diese Platte ist koaxial zum Glockenglas und bietet präzisere ultrathine Filmätz-/Aschefunktionen. Die Steuerelektronik wurde verbessert, um einen vollautomatischen Ätzprozess mit integrierter grafischer Benutzeroberfläche zu ermöglichen. Über diese Schnittstelle kann man jedes Prozessrezept voreinstellen, speichern und verfolgen. Zusätzlich gibt es einen integrierten Überwachungsprozess zur effizienten Verwaltung der Systemkomponenten. Diese Konstruktion ermöglicht eine hochpräzise Prozesssteuerung mit gleichmäßiger Abdeckung bei gleichbleibender Wafertemperatur. Das Gasfördersystem bietet eine aggressive Steuerung mehrerer, gleichzeitiger Gasströme. Bis zu drei Gasquellen können durch einen eigenen Gaskasten innerhalb einer einzigen Kammer zugeführt werden. Der Gaskasten umfasst einen integrierten Massendurchflussregler und Gasanalysator mit flexiblen Probenahmefähigkeiten zur fleißigen Prozesssteuerung. Es gibt auch ein eingebautes Plasma-Support-Netzwerk, das in der Lage ist, Plasmabedingungen zu erfassen und zu überwachen. Das PCW 208 Netzteil ist eine hochwertige, digital basierte Quelle, die für die meisten RIE-Ätz- und -Veraschungsanwendungen geeignet ist. Dieses Gerät bietet eine einstellbare Impulsbreite und Wiederholrate für einen erweiterten Prozessbereich. Es ist auch mit zwei separaten unabhängig gesteuerten Ausgang in Kombination mit einem hohen keramischen Isolationstransformator ausgelegt. PLASMATHERM SLR-730 ist sowohl für Ätz- als auch für Ascheanwendungen geeignet. Sein intelligentes Design und seine fortschrittlichen Steuerungen bieten die Leistung und Präzision, die erforderlich sind, um qualitativ hochwertige Ergebnisse zu erzielen. Dieses Gerät ist perfekt für fortgeschrittene Ätzprozesse, die eine gleichmäßige Abdeckung mit niedrigen Wafer-zu-Wafer-Variationen erfordern. Mit seinem integrierten Gaskasten und der High-End-Stromversorgung PCW 208 erweist sich SLR 730 als wertvolles Gut für jeden Halbleiterhersteller.
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