Gebraucht PLASMATHERM SLR 730 #9132975 zu verkaufen

PLASMATHERM SLR 730
Hersteller
PLASMATHERM
Modell
SLR 730
ID: 9132975
PECVD system, Single chamber configuration RFPP, RF5S generator plasmatherm, Process/Sequence controller 80486, PC control system sequential, Process capability vacuum, loadlock, Modular concept gases MKS 1160B, MFC 2000 sccm he brooks 5850, MFC 2000 sccm N2 brooks 5850, MFC 500 sccm N20 brooks 5850, MFC 20 sccm ammonia ebara A70W, Dry pump leybold D30A wet pump.
PLASMATHERM SLR 730 ist ein vollautomatischer Etcher/Asher, der für eine Vielzahl von Präzisionsanwendungen entwickelt wurde. Es ist die ideale Wahl für die schnelle und effiziente Entfernung von Dünnschichtabscheidung über Substrat, und es wird auch für die Durchführung von Prozessschritten wie Verkapselung und dielektrische Entfernung verwendet. PLASMATHERM SLR-730 hat eine Reihe von einzigartigen Eigenschaften, die es eine gute Wahl für die Verarbeitung jeder Art von Halbleiterstruktur machen. SLR 730 hat eine große Arbeitskammer, die aus Edelstahl gefertigt ist und mit einer hochwertigen Prozessgasförderanlage ausgestattet ist. Dadurch wird sichergestellt, dass die Kammer während des Ätz- oder Aschevorgangs sauber und frei von Verunreinigungen gehalten wird. Der Ätz- und Aschevorgang nutzt eine reine Sauerstoff- und Argonmischung mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit, die schnell und mit sehr hoher Präzisionsätzrate ätzen kann. Der Ätz- und Aschevorgang wird durch einen patentierten Schutzgasverteilungsmechanismus der Klasse 5 mit hohem thermischen Wirkungsgrad unterstützt, der eine hohe Effizienz bei Energieübertragung und gleichmäßigen Ätzergebnissen über das Probensubstrat ermöglicht. Die Kammer wird auch mit einer maßgeschneiderten und selbsteinstellenden Wasserdampfquelle und Wäscher ausgestattet, um eine effiziente Reinigung der Kammer zwischen den Prozessschritten zu gewährleisten. Der Wäscher reinigt die Partikelkammer, so dass die angrenzenden Oberflächenbereiche vor dem nächsten Verfahrensschritt vollständig sauber sind. SLR-730 kommt auch mit einem multidirektionalen Laserprofilsystem, das eine präzise Profilierung während des gesamten Prozesses ermöglicht. Die Ätzrate wird ständig überwacht, um ein gleichmäßiges Profil zu gewährleisten, und die multidirektionale Laserprofileinheit ermöglicht es dem Bediener, Prozessergebnisse zu maximieren, ohne empfindliche Bereiche des Substrats zu überätzen. Darüber hinaus verfügt PLASMATHERM SLR 730 auch über eine benutzerfreundliche Steuerschnittstelle, die Anpassungen der Prozessparameter ermöglicht, so dass der Bediener den Ätz- und Ascheprozess problemlos an die Art des zu ätzenden Materials anpassen kann. So kann der Bediener die Ergebnisse für jeden Substrattyp einfach optimieren und den optimalen Prozessaufbau schnell und effizient ermitteln. Insgesamt ist PLASMATHERM SLR-730 ein vielseitiger und leistungsstarker Ätzer/Ascher, der für den Einsatz in einer Vielzahl von Präzisionsanwendungen konzipiert ist. Es bietet eine Kombination aus schnellem und effizientem Ätzen oder Aschen der Dünnschichtabscheidung auf Substraten sowie der Fähigkeit, mehrere Prozessschritte wie Verkapselung und dielektrische Entfernung durchzuführen. Die benutzerfreundliche Steuerschnittstelle macht es einfach, den Prozess auf den Substrattyp anzupassen, und die anpassbare Laserprofilmaschine ermöglicht eine genaue Profilierung. Alle diese Merkmale kombinieren, um ein extrem leistungsfähiges Ätz- und Aschewerkzeug für jede Halbleiterstruktur bereitzustellen.
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