Gebraucht PLASMATHERM / UNAXIS 790 #9081010 zu verkaufen

ID: 9081010
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
Reactive Ion Etcher (RIE), 8" Manual load Non-load lock system RF Power supply with matching network RF 600 W Power supply LEYBOLD 361C Turbo pump with NT20 controller Gas distribution panel consisting of (4) MFCs per process side 2003 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS 790 ist ein hochpräziser Plasmaätzer/Ascher mit hohem Durchsatz für Anwendungen mit mehreren Benutzern. Es verfügt über ein kompaktes und robustes Design, das sowohl mit Standard-Photolithographie als auch mit ultrapräzisen Mustertechniken verwendet werden kann. Die Ausrüstung verwendet fortschrittliche Vakuumtechnologie, eine niedrige Geschwindigkeit, Hochdruckplasma und eine geschlossene Querschnittskammer, um konsistente Ergebnisse mit ausgezeichneter Ätz- oder Ascheleistung zu erzielen. Mit einem Kammervolumen von 550 Litern ist das System in der Lage, bis zu vier 8 "-Waferkassetten aufzunehmen. UNAXIS 790 verfügt über eine zuverlässige, benutzerfreundliche und effiziente Benutzeroberfläche. Für jede der Kammerkomponenten sind separate Prozesssteuermodule sowie eine optionale Software zur Einstellung von Schlüsselparametern (wie Ätzzeit und Druck) und zur Überwachung des Prozesses vorgesehen. Eine Speicherfunktion ermöglicht das einfache Abrufen von zuvor gespeicherten Prozessen und Parametern. Das Gerät ist mit zwei unabhängig austauschbaren Plasmaquellen ausgestattet, darunter eine Hochdruck-HF-Quelle zum Ätzen und eine Sauerstoffascherquelle für Ätz- und Nachbearbeitungsanwendungen. Darüber hinaus umfasst PLASMATHERM 790 erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen wie automatische Prozesssteuerung (APC) und automatische Gassteuerung (AGC). Mit diesen beiden Funktionen kann die Maschine die Wiederholbarkeit und Genauigkeit des Prozesses aufrechterhalten, indem sie notwendige Anpassungen vornimmt, während der Benutzer einen Prozess ausführt. Das Werkzeug enthält auch eine zweistufige Turbopumpe, die Basisdrücke bis zu 5 x 10-6 bis 10-7 Torr erreichen kann, was eine hochwertige, geringe Partikelverunreinigung der Plasmakammer gewährleistet. Die integrierte Gasverteilungskapazität der Kammer gewährleistet eine einheitliche Ätz- oder Ascherate bei minimalen Arbeitsungleichförmigkeiten. Die Auswahl an Ätz-/Aschgasen (Ar, O2, Cl2, CF4, CHF3 usw.), sein einstellbarer Druckbereich (20-150 mTorr) und seine Fähigkeit, positive oder negative Ätzungen durchzuführen, machen es zu einem idealen Ätzer/Ascher für eine Vielzahl von Anwendungen. Zur Reduzierung der Betriebskosten umfasst das Modell eine GasClean programmierbare Gasmischanlage, die den automatischen und ferngesteuerten Durchgang von Gasmischungen ermöglicht. Dies reduziert den manuellen Eingriff und die damit verbundenen Redundanzen im Gasverbrauch, während das eingebaute Gasrecycle-Feature die Gaskosten weiter reduziert. Mit einem fortschrittlichen Sicherheitssystem und einer Wärmedämmung wurde PLASMATHERM/UNAXIS 790 entwickelt, um optimale Leistungen bei hoher Prozesswiederholbarkeit und einer sauberen und sicheren Arbeitsumgebung zu gewährleisten.
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