Gebraucht PLASMATHERM / UNAXIS CONCEPT 1 #9283558 zu verkaufen

PLASMATHERM/UNAXIS CONCEPT 1 ist eine fortschrittliche Ätz-/Aschemaschine für präzise nanoskalige Musterbildung. Es kombiniert eine Hochdruck-Hochtemperatur-induktiv gekoppelte Plasmaquelle mit einem einzigartigen modularen Probenübertragungsmechanismus, um eine verbesserte Leistung und einen verbesserten Durchsatz zu erzielen. Das System ist in der Lage, hochgenaue, wiederholbare Ätzen und Aschen von breiten Palette von Material, mit Funktionen von der Nanoskala bis zur Mikrometer-Skala. Das Gerät umfasst eine präzise gesteuerte induktiv gekoppelte Plasmaquelle, die bei Atmosphärendruck arbeitet, und eine Reinigung der Spannfläche in situ, um die Wafer-zu-Wafer-Variation zu minimieren. Das Prozessgas kann mit Drei-Zonen-Gasverteilung präzise abgestimmt werden, wobei sowohl Strömungssteuerung als auch chemische Reaktionskontrolle zur Steuerung von Ätz-/Ascheprozessen zur Verfügung stehen. Der Probenübertragungsmechanismus ist so konzipiert, dass er die Variation von Probe zu Probe minimiert und Bewegungsflexibilität und Kontrolle bietet, was den schnellen Aufbau des Werkzeugs erleichtert. Waferorientierung und Rezeptspeicherung ermöglichen hochoptimierte Laufzeiten für komplexe Ätz- und Ascheprozesse. UNAXIS CONCEPT 1 bietet zudem eine autonome, hoch kontrollierte Wafer-Level-Umweltkontrolle, die Werkzeug- und Wafereffekte auf Prozessqualität und Reproduzierbarkeit minimiert. Die Maschine ist mit einer Reihe von Ionengettern und Drucksteuerungen sowie einspritzbaren Gasleitungen zur Kammerreinigung und wiederholbaren Gasförderoptimierung ausgestattet. Das Tool bietet benutzerfreundliche Software- und Hardware-Tools zur Steuerung und Steuerung des Assets. Darüber hinaus ist das Modell mit einer patentierten Gasförderanlage ausgestattet, die bis auf wenige Nanometer optimierte Ätz- und Aschebedingungen ermöglicht. Integraler Bestandteil von PLASMATHERM CONCEPT 1 ist das neu entwickelte Ätzüberwachungssystem, das die Steuerung des Prozesses in Echtzeit ermöglicht. Diese Einheit umfasst einen sequentiellen Sensorstapel mit zwei Temperatursensoren und einem Drucksensor, um eine optimale Prozesssteuerung zu ermöglichen. Die Maschine enthält auch einen berührungslosen Sensor zur Überwachung von Ätzprofilen. Die fortschrittliche Technologie von CONCEPT 1 macht es für eine breite Palette von nanoskaligen Geräteherstellungsprozessen geeignet. Seine einzigartige Kombination aus Hardware-/Software-Tools und wiederholbarer Leistung ermöglichen die Produktion von ultra-kleinen Funktionen mit deutlich reduzierter Variation. Damit ist sie eine ideale Wahl für Halbleiterproduktionsanwendungen.