Gebraucht PLASMATHERM / UNAXIS SLR 720 #9270614 zu verkaufen

PLASMATHERM / UNAXIS SLR 720
ID: 9270614
Wafergröße: 6"
Reactive Ion Etcher (RIE), 6".
PLASMATHERM/UNAXIS SLR 720 ist eine branchenführende, fortschrittliche Ätz- und Ascheausrüstung für eine breite Palette plasmabasierter Waferbearbeitungsanwendungen. Seine Eigenschaften machen es sowohl für F&E als auch für die Produktion geeignet. UNAXIS SLR 720 hat eine große Kammergröße von 11 "(270mm) im Durchmesser und ist in der Lage, vollwertige 300mm Wafer zu verarbeiten. Die Konstruktion besteht aus Ultrahoch- und Niederdruck-Plasmazonen, die isoliert und unabhängig sind und eine höhere Prozessflexibilität ermöglichen. Das System verfügt über eine volle Länge Substrat Heizeinheit, die Ätz- und Aschegleichförmigkeit bei der niedrigstmöglichen Temperatur gewährleistet. Die Kammer ist mit einer Endpunktdetektionseinheit (EPD) ausgestattet, um die Prozessabwicklung zu erfassen. Die Hochdruckzone der Maschine hat eine Leistung von bis zu 1000W. Es verfügt über digitale schwebende Leistungssteuerung mit Auto Frequency Tuning (AFT), die Prozessgenauigkeit und Wiederholbarkeit beibehalten hilft. Es enthält auch einstellbare HF-Tuningpunkte, die die Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit verbessern. Das Werkzeug ist auch in der Lage, in-situ Drucküberwachung, um eine hohe Prozessstabilität und Konsistenz zwischen den Läufen zu gewährleisten. Die Niederdruckzone hingegen hat eine Spitzenleistung von bis zu 300W und zwei unabhängige Gasleitungen mit fluidischer Steuerung. Die Gaszusammensetzung und Abgabe von bis zu vier Vorläufern kann in Echtzeit individuell gesteuert werden. Die Niederdruck-Ätzchemie ist einzigartig in ihrer Fähigkeit, trocken zu ätzen und ist für eine Reihe von Prozessen anwendbar, einschließlich Resiststripper, Ätzrücken und Dickenkontrollprozesse. Ein ferngesteuertes Leckageventil ist im Lieferumfang enthalten, um die Sicherheit während des Betriebs zu gewährleisten. PLASMATHERM SLR 720 bietet außerdem Funktionen zur Überwachung kritischer Wafereigenschaften ihrer Ätz- und Ascheprozesse. Es überwacht Temperatur, Plasmabelastung, HF-Leistung und Druck der Kammer. Darüber hinaus verfügt es über eine Endpoint Detection (EPD) -Funktion, die den Abschluss der Aufgabe signalisiert und eine Überbearbeitung von Wafern verhindert. SLR 720 etcher/asher ist ein branchenführendes Asset, das Robustheit, Flexibilität und Präzision vereint. Dieses All-in-One-Tool kann für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden und bietet überlegene Effizienz und Leistung. PLASMATHERM/UNAXIS SLR 720 ist mit seiner Benutzerfreundlichkeit und hoher Genauigkeit und Präzision eine ausgezeichnete Wahl für alle, die hochwertige, zuverlässige Waferprodukte erstellen möchten.
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