Gebraucht PLASMATHERM / UNAXIS SLR Series #293777485 zu verkaufen
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PLASMATHERM/UNAXIS SLR Series ist eine hochmoderne Linie von Plasmaätz-/Aschersystemen, die den anspruchsvollen Ätz- und Reinigungsanforderungen der Halbleiter- und Dünnschichtindustrie gerecht wird. Als führende Lösung im Bereich der Plasmabearbeitungsanlagen bietet diese Serie beispiellose Leistung, Präzision und Wiederholbarkeit für eine Vielzahl von Anwendungen, von der fortschrittlichen Mikroelektronik bis zur Optoelektronik und mehr. Kern der UNAXIS SLR Serie ist die ausgeklügelte Plasmabearbeitungstechnologie, die eine präzise Steuerung der Ätz- und Reinigungsprozesse ermöglicht. Das Gerät nutzt eine hochdichte Plasmaquelle, typischerweise eine hochfrequente (RF) oder Mikrowellenquelle, um ein Plasma zu erzeugen, das mit der Oberfläche des zu verarbeitenden Materials reagiert. Dieses Plasma kann so konfiguriert werden, dass es eine Vielzahl von Chemikalien liefert, die ein selektives Ätzen oder Aschen verschiedener Materialien mit hoher Selektivität und Gleichmäßigkeit ermöglichen. Eines der wichtigsten Highlights der PLASMATHERM SLR-Serie ist ihre Vielseitigkeit bei der Aufnahme verschiedener Substratgrößen und -typen. Das System kann Substrate unterstützen, die von kleinen Proben bis zu großen Halbleiterscheiben reichen, wodurch es sowohl für F & E- als auch für Produktionsumgebungen geeignet ist. Darüber hinaus bietet das Gerät eine Reihe von Verarbeitungsmodi, einschließlich der Chargenverarbeitung für Anwendungen mit hohem Durchsatz und der Einzelwaferbearbeitung zur präzisen Kontrolle einzelner Proben. In Bezug auf die Prozessfähigkeit zeichnet sich die SLR-Serie sowohl bei Ätz- als auch bei Ashing-Anwendungen aus. Beim Ätzen wird selektiv Material von der Substratoberfläche entfernt und präzise Merkmale und Muster für die Geräteherstellung erzeugt. Die fortschrittlichen Prozesssteuerungsfunktionen der Maschine gewährleisten hohe Ätzraten, ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und überlegene Selektivität, wodurch sie sich ideal für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente mit Untermikron-Merkmalsgrößen eignet. Beim Aschen hingegen wird Photoresist oder andere organische Verunreinigungen von der Substratoberfläche entfernt. Die PLASMATHERM/UNAXIS SLR Serie bietet hocheffiziente Ascheprozesse mit minimaler Beschädigung des zugrunde liegenden Materials, wodurch hohe Ausbeuten und Zuverlässigkeit in der Geräteherstellung gewährleistet werden. Die plasmachemische Steuerung des Werkzeugs ermöglicht eine schonende, aber effektive Entfernung organischer Schichten, wodurch die gesamte Sauberkeit und Qualität der verarbeiteten Substrate verbessert wird. Darüber hinaus ist die UNAXIS SLR-Serie mit fortschrittlichen Automatisierungs- und Prozessüberwachungsfunktionen ausgestattet, um die Produktivität und Zuverlässigkeit zu erhöhen. Die Anlage umfasst ausgeklügelte Funktionen zur Gasflussregelung, Temperaturregelung und Endpunktdetektion, um eine präzise Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Darüber hinaus ermöglichen Echtzeit-Prozessüberwachung und Datenprotokollierung es Benutzern, Prozessparameter zu verfolgen und Prozessrezepte für konsistente Ergebnisse zu optimieren. Abschließend zeichnet sich die PLASMATHERM SLR-Serie als hochmodernes Plasmaätzer/Ascher-Modell aus, das eine unübertroffene Leistung, Flexibilität und Zuverlässigkeit für eine breite Palette von Halbleiter- und Dünnschichtverarbeitungsanwendungen bietet. Mit seiner fortschrittlichen Plasmabearbeitungstechnologie, seiner vielseitigen Handhabung von Substraten und umfassenden Prozesssteuerungsfunktionen ist diese Serie eine Top-Wahl für Unternehmen, die überlegene Ätz- und Veraschungslösungen für ihre anspruchsvollsten Anwendungen suchen.
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