Gebraucht PLASMATHERM / UNAXIS SLR Series #293807239 zu verkaufen

Die PLASMATHERM/UNAXIS SLR-Serie ist eine Suite fortschrittlicher Ätz-/Aschersysteme, die speziell für die anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterherstellung und Forschungsanwendungen entwickelt wurden. Diese Hochleistungssysteme verfügen über modernste Technologien und innovative Designelemente, um eine überlegene Prozesssteuerung, hohe Wiederholbarkeit und außergewöhnliche Ätz-/Aschegleichförmigkeit über eine breite Palette von Substraten und Prozessen zu bieten. Die UNAXIS SLR Serie umfasst eine Reihe von Modellen, die jeweils auf die spezifischen Prozessanforderungen zugeschnitten sind und unterschiedliche Wafergrößen und Produktionsmengen aufnehmen. Diese Systeme sind mit hochmodernen Plasmaquellen, fortschrittlichen Gaszufuhrsystemen, präziser Temperaturregelung und flexiblen Prozessfähigkeiten ausgestattet, um eine Vielzahl von Anwendungen zum Trockenätzen und Plasmaveraschen zu ermöglichen. Im Zentrum der PLASMATHERM SLR-Serie steht eine sehr vielseitige Vakuumkammer, die eine gleichmäßige Plasmaverteilung und effiziente Gas-Oberfläche-Wechselwirkungen ermöglicht. Die Kammer ist aus hochwertigen Materialien aufgebaut, um eine ausgezeichnete Prozessstabilität, eine geringe Partikelerzeugung und langfristige Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Es ist mit fortschrittlichen Pumpsystemen ausgestattet, um eine schnelle Pumpe nach unten zu erreichen und während des gesamten Prozesses konstante Vakuumwerte aufrechtzuerhalten. Die in der SLR-Serie verwendeten Plasmaquellen basieren auf fortschrittlichen Hochfrequenz- (RF) und Mikrowellentechnologien und bieten eine präzise Kontrolle über Plasmaparameter wie Dichte, Gleichmäßigkeit und Ionenenergie. Diese Quellen können eine breite Palette von Plasmachemie erzeugen, ermöglicht das Ätzen/Aschen von verschiedenen Materialien, einschließlich Silizium, Siliziumdioxid, Metalle, Polymere und mehr. Die Systeme verfügen auch über hochmoderne Impedanzanpassungsnetzwerke, um die Effizienz der Plasmaübertragung zu maximieren und eine zuverlässige Plasmaerzeugung zu gewährleisten. Das Gasfördersystem der PLASMATHERM/UNAXIS SLR Serie ist für die präzise Steuerung von Prozessgasen und Durchflussraten ausgelegt, um die gewünschten Ätz-/Ascheraten und Selektivität zu erreichen. Die Systeme unterstützen sowohl Standard-Gaschemien, die häufig in der Halbleiterverarbeitung verwendet werden, wie Sauerstoff, Argon, Schwefelhexafluorid und Chlor, als auch kundenspezifische Gasgemische, die auf spezifische Anwendungen zugeschnitten sind. Das Gasfördersystem ist mit Massendurchflussreglern, Druckreglern und Durchflussüberwachungsgeräten ausgestattet, um genaue und wiederholbare Prozessbedingungen zu gewährleisten. Die Temperaturregelung ist ein kritischer Aspekt von Ätz-/Ascheprozessen, und die UNAXIS SLR-Serie umfasst fortschrittliche Temperaturregelungssysteme, um eine enge Temperaturgleichmäßigkeit über die Waferoberfläche zu erreichen. Die Systeme verfügen über integrierte Temperaturüberwachungssensoren, Heizelemente und Kühlmechanismen, um den Wafer während des gesamten Prozesses auf der gewünschten Temperatur zu halten. Diese präzise Temperaturregelung trägt dazu bei, Prozessschwankungen zu minimieren und konsistente Ätz-/Ascheergebnisse von Wafer zu Wafer zu gewährleisten. PLASMATHERM SLR-Serie bietet auch eine Reihe von erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen, einschließlich Echtzeit-Plasmadiagnose, Endpunkterkennungsalgorithmen, Rezeptmanagement-Software und erweiterte Datenerfassungsfunktionen. Mit diesen Funktionen können Anwender Prozessparameter optimieren, die Prozessleistung in Echtzeit überwachen und eine hohe Prozesswiederholbarkeit und -ausbeute erzielen. Die Systeme sind auch mit benutzerfreundlichen Bedienfeldern und intuitiver Software ausgestattet, um eine einfache Bedienung und Wartung zu ermöglichen. Insgesamt stellt die SLR-Serie eine hochmoderne Lösung für fortgeschrittene Ätz- und Plasmaveraschungsanwendungen in der Halbleiterindustrie dar. Mit modernsten Technologien, flexiblen Prozessfähigkeiten und überlegener Leistung eignen sich diese Systeme gut für eine Vielzahl von Forschungs- und Produktionsumgebungen, in denen Präzision, Zuverlässigkeit und Prozesskontrolle an erster Stelle stehen.