Gebraucht PLASMATHERM Wafer/Batch 741 #293595646 zu verkaufen

PLASMATHERM Wafer/Batch 741
ID: 293595646
Wafergröße: 4"
Dual plasma and Reactive Ion Etcher (RIE), 4".
PLASMATHERM Wafer/Batch 741 ist ein Plasmabearbeitungsätzer/-ascher, der entwickelt wurde, um eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie anzubieten. Es ist ein hochpräzises Gerät, das eine Kombination aus Dual-Frequenz-Plasmaquellen, Hochfrequenzquelle für den Ätzprozess und einer Niederfrequenzquelle für die Aschstufe verwendet. Diese Kombination ermöglicht eine hohe Präzision und Kontrolle der Ätz- und Ascheparameter und ist somit ideal für die Feinabstimmung und die Optimierung der Leistung für bestimmte Anwendungen. PLASMATHERM Wafer/Batch 741 bietet eine breite Palette von Betriebsparametern, so dass sowohl Ätz- als auch Ascheprozesse auf kundenspezifische Anforderungen zugeschnitten werden können. Dies führt zu einer verbesserten Gleichmäßigkeit und Oberflächengüte für Ätz- und Ascheanwendungen. Eine Spezialität dieses Ätzers/Aschers ist seine Fähigkeit, Wafersubstrate mit einer Größe von bis zu 200mm Durchmesser aufzunehmen. Darüber hinaus verfügt dieses Modell über ein einzigartiges Gaseinleitungssystem, das an der nach vorne gerichteten Oberfläche der Ätzkammer befestigt ist und einen homogenen und gleichmäßigen Prozessgasstrom in den Ätz- und Aschekammern gewährleistet. PLASMATHERM Wafer/Batch 741 verfügt über eine benutzerfreundliche und intuitive Oberfläche, die hoch automatisiert ist und zahlreiche Prozessüberwachungs- und Diagnoseroutinen umfasst. Diese Routinen ermöglichen es Benutzern, Temperaturen, Drücke und andere Parameter zu überwachen und gleichzeitig die gesamten Ätz- und Ascheprozesse zu steuern. Darüber hinaus integriert das System auch ein automatisiertes Teilsystem zur Fehlererkennung und -wiederherstellung, das darauf ausgelegt ist, jederzeit optimale Ergebnisse zu erzielen. Dieses Ätz-/Aschesystem ist eine ideale Lösung für die Halbleiterindustrie und bietet ein kostengünstiges und zuverlässiges Werkzeug für Wafer- und Batch-Jobs. Es vereinfacht Prozesse, verbessert den Ertrag und ist für einen robusten Betrieb ausgelegt. Darüber hinaus kann PLASMATHERM Wafer/Batch 741 durch den zweckmäßigen Einsatz verschiedener Materialien ein qualitativ hochwertiges Ätzen und Aschen von polysiliziumdotierten Substraten, Metallen und Dielektrika durchführen. Seine Vielseitigkeit und Leistung machen es zu einer idealen Lösung für Unternehmen, die ihre Produktionseffizienz steigern und Kosten senken möchten.
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