Gebraucht PSK TERA 21 #9355264 zu verkaufen

PSK TERA 21 ist eine hocheffiziente und zuverlässige Ätz- und Aschemaschine, die speziell für die fortschrittliche Verarbeitung in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Dieser vielseitige Ätzer/Ascher bietet hohen Durchsatz und Flexibilität für eine Vielzahl von Prozessen wie Dünnschichtätzen und Oxidabscheidung. TERA 21 ist mit einem ultrahohen Durchsatz von 200W auf einem einzelnen Wafer ausgelegt, es kann eine Rate von bis zu 200nm/min produzieren. Mit dieser Fähigkeit sind kompakte, Einzel-Wafer-Systeme in der Lage, schnell bis zu 200 Wafer/h zu verarbeiten. Darüber hinaus ermöglicht die vielseitige Gasförderanlage eine einfache Anpassung eines breiten Spektrums an Gaskonzentrationen, wodurch Benutzer ihr Prozessrezept genau auf die hohen Anforderungen abstimmen können. Die vielseitige PSK TERA 21 ist auch in der Lage, eine breite Palette von Quellen für reaktive Arten wie Chlor, Bortrichlorid, Fluor, SF6 und andere Chemikalien, die in der Halbleiterverarbeitung verwendet werden, anzuwenden. Es ist mit automatisierter HF-Matching-Schaltungstechnik ausgestattet, die eine genaue und präzise Lieferung der gewünschten Artkonzentration ermöglicht. Das System ist zudem zuverlässig und hochpräzise, mit Temperaturregelungstoleranz bis ± 1 ° C und ermöglicht jedes Mal wiederholbare Prozessergebnisse. Diese erweiterte Ätzer/Ascher-Einheit bietet auch hervorragende Ätzproduktgleichmäßigkeit und Ertrag. Seine fortschrittlichen Optik- und Bilderkennungssysteme bieten eine Produktqualitätssicherung sowie eine hohe Ausbeute pro Wafereinheit. Darüber hinaus bietet die leistungsstarke Elektroniksteuerung und Videomonitormaschine Anwendern eine benutzerfreundliche Schnittstelle, die den Ätz-/Ascherprozess sicherer und effizienter macht. Zusammenfassend ist TERA 21 ein zuverlässiges und leistungsstarkes Ätzer/Ascher-Tool, das sich ideal für die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung eignet. Die vielseitigen Gasfördersysteme sorgen für eine präzise Lieferung der gewünschten Spezies und die extrem hohen Durchsatzraten ermöglichen eine Produktion von bis zu 200nm/min. Darüber hinaus bieten Temperaturregelung, Bilderkennungssysteme und Videomonitor eine einfach zu bedienende Schnittstelle zur kompletten Prozesssteuerung.