Gebraucht SAMCO RIE-200IPC #9375019 zu verkaufen

SAMCO RIE-200IPC ist ein reaktiver Ionenätzer (RIE) für verschiedene Arten von Halbleiter- und Elektronikgeräten. Es verfügt über Dual-Strahl Plasma Processing Unit und hat eine breite Palette von Anwendungen. Es wird für Prozessgase wie Chlor, Bortrichlorid und Sauerstoff zur Herstellung von Bauelementen wie Dünnschichttransistoren und anderen Elementen mikroelektronischer Bauelemente verwendet. RIE-200IPC kann zum Ätzen von Metallen, Isolatoren und Polymeren verwendet werden. Dieser Ätzer hat einen weiten Ionenenergiebereich von 0,1 bis 4.0keV, einen weiten Prozessdruckbereich von 0,2 bis 8,0 mTorr, einen weiten Spannfuttertemperaturbereich von 10 bis 400℃ und einen weiten Leistungsbereich von 0,1 bis 3,0 kW. Das Gerät verfügt zudem über eine hohe Eingangsfrequenz von bis zu 200kHz. Dieser Ätzer ist mit einem magnetischen Vorspannsystem und einem leistungsstarken LEF- 32™ Computersystem ausgestattet, die zur Optimierung von Ätzprozessen eingesetzt werden. SAMCO RIE-200IPC ist in der Lage, hohe Ätzraten und einheitliche Muster bereitzustellen, was es ideal für die Herstellung von präzisen mikroelektronischen Geräten macht. Die fortschrittliche Breitspektrum-Plasmaquelle wurde entwickelt, um die Partikelentladung zu reduzieren und die Ätzgleichmäßigkeit zu verbessern, und das Kontrollsystem ermöglicht eine präzise Steuerung der Ätzparameter und eine einfache Einstellung. Darüber hinaus gewährleistet der fortschrittliche lineare Transferroboter und das Design hochwertige Proben, die eine Wiederholbarkeit der Prozesse ermöglichen. Dieser Ätzer ist in der Lage, verschiedene Ätzverfahren bereitzustellen, wie Trockenätzen, Nassätzen, Überätzen und Ätzen mit hohem Seitenverhältnis. Das Ätzprofil ist stark abhängig von Prozessparametern wie Gasart, Druck, Leistungsniveau und Ionenenergie. Darüber hinaus ermöglicht die Konstruktion des Ätzers einen mehrstufigen Ätzprozess, bei dem unterschiedliche Ätzparameter für unterschiedliche Materialtiefen verwendet werden. Dieser Ätzer ist aufgrund seiner präzisen Steuerung und zusätzlicher Ätzprozesse besonders nützlich für die moderne MEMS-Geräteherstellung. Zusammenfassend ist RIE-200IPC ein vielseitiger Ätzer mit verschiedenen Funktionen, wie Dual-Beam Plasma Processing Unit, eine breite Palette von Gasarten und eine breite Palette von Prozessparametern. Es kann zum Ätzen verschiedener Materialien wie Metalle, Isolatoren und Polymere verwendet werden. Darüber hinaus kann dieser Ätzer verschiedene Ätzverfahren zur Präzisionsgeräteherstellung bereitstellen und eignet sich für die MEMS-Geräteherstellung.