Gebraucht SAMCO RIE-212iPC #9384507 zu verkaufen
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ID: 9384507
Wafergröße: 2"-4"
Weinlese: 2008
ICP Etching system, 2"-4"
2008 vintage.
SAMCO RIE-212iPC ist ein hochmoderner Plasmaätzer/Ascher. Es eignet sich sowohl für Prototypen- als auch für Produktionsetch-und-Clean-Anwendungen in IC-Fertigungsprozessen. Es ist ein Einkammer-Gerät mit einem innovativen Ätz-/Reinigungsplatten-Konzept, das mit einem turbulenzfreien linearen Schienen- und Lagersystem arbeitet. Dieses System ermöglicht eine effizientere und gleichmäßigere Ätzung sowie eine bessere Konformität und Ätzgleichmäßigkeit. SAMCO RIE 212 IPC ist mit einer fortschrittlichen E-Gun ausgestattet, die eine hohe Plasmadichte, Gleichmäßigkeit und Haltbarkeit gegen verschiedene Gaskomponenten erzeugen kann. Diese Pistole ist in der Lage, eine hohe Prozessstabilität unter allen Ätzbedingungen aufrechtzuerhalten, wodurch der Benutzer eine umfassende, zuverlässige Ätz- und Aschekontrolle erhält. Der Benutzer kann sowohl die Kammertemperatur als auch den Druck steuern, was ein hochauflösendes Ätzen ermöglicht. RIE-212iPC ist für eine Vielzahl von Bearbeitungsmodi ausgelegt. Es unterstützt sowohl dimensionales als auch planares Ätzen sowie laserreaktives Ionenätzen (RIE). Es bietet dem Anwender eine hervorragende Form-, Tiefen- und Seitenverhältnisregelung sowie eine hohe Prozesssicherheit und Wiederholbarkeit. Es kann nicht nur traditionelle Materialien ätzen, sondern auch harte und mehrschichtige geschützte Materialien wie Aluminium, Edelstahl und Gewebe ätzen. RIE 212 IPC ist extrem benutzerfreundlich. Es verfügt über ein intuitives Bedienfeld, das es dem Benutzer ermöglicht, das Setup einfach zu ändern und zu navigieren. Es ist in der Lage, Hochgeschwindigkeits-Datenerfassung und -analyse sowie eine schnelle und effiziente Job-Setup. Der modulare Aufbau ermöglicht eine einfache Integration neuer Komponenten oder Upgrades am Gerät. Der Benutzer kann auch mehrere Prozesse gleichzeitig steuern, indem er die integrierten integrierten Computer verwendet. SAMCO RIE-212iPC ist ein fortschrittlicher, benutzerfreundlicher Ätzer/Ascher. Mit seiner innovativen E-Gun und seinem linearen Gleis- und Montagesystem bietet es eine hervorragende Form-, Tiefen- und Aspektverhältnisregelung sowie hochauflösendes Ätzen und Aschen. Es eignet sich sowohl für Prototyp- als auch für Produktionsätz- und -reinigungsanwendungen in IC-Fertigungsprozessen und bietet dem Anwender eine umfassende und zuverlässige Prozesssteuerung sowie eine einfache Einrichtung und Bedienung.
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