Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH 203 #9246715 zu verkaufen

SEZ/LAM RESEARCH 203 Etcher/Asher ist eine hochmoderne Ätzmaschine, die verwendet wird, um Muster und Schaltungen auf Halbleiterscheiben zu erzeugen. Sie ähnelt einem herkömmlichen Ätzer, bei dem ein dünner Film entweder aus Photoresist oder Oxid auf die Oberfläche des Wafers aufgebracht wird, bevor ein gewünschtes Muster hineingeätzt wird. Die RESEARCH SEZ 203 ist jedoch mit einer einzigartigen lasergestützten Ätzausrüstung ausgestattet, die eine bessere Genauigkeit, Präzision und Komplexität der Konstruktionen ermöglicht. Die RESEARCH LAM RESEARCH 203 ist für hochvolumige, hochpräzise Produktionsvorgänge konzipiert und verfügt über eine fortschrittliche Optik, Software und Kammereinrichtung, die eine Vielzahl von Ätzparametern ermöglicht. Es verfügt über lasergestützte In-situ-Endpunkt-Erkennung (LIPED) und Unterstützung für erweiterte Datenüberwachung und -kontrolle. Um Muster zu erzeugen, beginnt die Maschine, indem sie den gewünschten Photoresist oder Oxidfilm auf den Wafer aufbringt, und verwendet dann einen Laserstrahl, um das gewünschte Muster zu erzeugen. Das Muster kann dann in den Laser-Controller der Maschine programmiert werden, der die Bewegung, Intensität und Leistung des Laserstrahls steuert, um das gewünschte Muster abzubilden. Der Strahl wird durch eine Reihe von energiemodulierten optischen Elementen geleitet, die ihn auf den photomaskierten Bereich des Wafers leiten. Nachdem das Muster abgebildet ist, wird der Laserstrahl auf das Werkstück fokussiert, wobei der Photoresist oder Oxidfilm selektiv in einer kontrollierten Umgebung entfernt wird, die für saubere Arbeitsergebnisse optimiert ist. Das RESEARCH 203 System verfügt zudem über eine fortschrittliche automatisierte Reinigungseinheit, die vor jedem Prozessablauf saubere Arbeitsbedingungen gewährleistet und so die Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Ergebnisse weiter verbessert. Um den chemischen und materiellen Abfall zu reduzieren, verfügt die Maschine auch über eine Bypass-Maschine, die bei der Arbeit mit Polymeren, die keine solchen Techniken erfordern, keine Luft und/oder inerte Gase benötigt. Die RESEARCH SEZ/LAM RESEARCH 203 ist sehr vielseitig einsetzbar und kann zur Erstellung unterschiedlichster Muster und Merkmale auf allen wichtigen Halbleitermaterialien verwendet werden. Es ist eine ideale Lösung sowohl für große Produktionsbetriebe als auch für Forschungseinrichtungen, die nach fortschrittlichen Ätzfähigkeiten suchen.