Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH 203 #9246716 zu verkaufen

SEZ/LAM RESEARCH 203 ist ein Ätzer/Ascher, der sowohl in der Halbleiterherstellung als auch in der Forschung und Entwicklung verwendet wird. Mit einer linearen E-Strahlquelle ist diese Präzisionsausrüstung so konzipiert, dass sie Funktionen mit konsistentem Profil, Seitenverhältnis und Tiefe ätzt. Darüber hinaus kann das System zur Hochgeschwindigkeitsreinigung von Halbleiteroberflächen mit kurzem Impuls verwendet werden. Mit einer Open-Frame-Konfiguration ist die SEZ 203 mit feldwechselbaren Komponenten für eine einfache Wartung ausgestattet. Dies sorgt für maximale Betriebszeiten und ermöglicht bedarfsgerechte Neukonfigurationen der Geräte. Sie besteht aus drei Hauptkomponenten - einer Elektronenkanone, strahlformenden Elektroden und magnetfelderzeugenden Spulen. Diese Konstruktion ermöglicht eine automatisierte Pulsgasförderung, die eine präzise Prozesssteuerung ermöglicht. Zur Einspritzung eines zweiten Plasmagases für zusätzliche Ätzfähigkeiten können zwei Gasinjektoren in die CLI-Quelle eingefügt werden. Dieser Ätzer/Ascher wird durch das einfach zu bedienende Process Create PC-Softwarepaket programmiert. Die Software ermöglicht es Benutzern, Rezepte zu entwickeln und zu speichern und gleichzeitig eine Echtzeit-Prozessüberwachung bereitzustellen. Alle Rezepte können für die zukünftige Verwendung im Speicher des Geräts gespeichert werden. Darüber hinaus bietet LAM RESEARCH 203 Anwendern eine integrierte Rezeptmanagement-Maschine, um den Austausch von Rezepten zwischen mehreren Systemen zu erleichtern. Bei Verwendung als Ätzer erzeugt 203 durch den Einsatz seines fein gesteuerten Elektronenstrahls Submikron-Auflösungsmerkmale. Darüber hinaus ist das Werkzeug auch mit einem fortgeschrittenen Substrat Turner ausgestattet, so dass es ideal für mehrschichtiges Ätzen über große angeordnete Substrate. Dieser Turner ist auch in der Lage, automatisierte Rezepte basierend auf benutzerdefinierten Parametern und benutzerdefinierten Toleranzen auszuführen. Bei Verwendung als Ascher ist SEZ/LAM RESEARCH 203 Asset in der Lage, Kurzpuls, Hochgeschwindigkeitsreinigung von fortschrittlichen Halbleiteroberflächen. Dadurch werden Verunreinigungen von der Oberfläche von Geräten entfernt, die bei der Herstellung leistungsfähigerer Konstruktionen helfen. Zusätzlich zum herkömmlichen Aschen ist dieses Modell in der Lage, Motorregler mit variabler Drehzahl zu verwenden, um sowohl die Zykluszeit als auch die Rauhigkeit der ashed Oberfläche zu verringern. Abschließend ist SEZ 203 ein fortgeschrittener Ätzer/Ascher, der in der Lage ist, eine Vielzahl von Bedürfnissen zu bedienen. Mit einer Präzisionsquelle, einer automatisierten Gaslieferung, einer integrierten Rezeptmanagement-Ausrüstung und einem Substrat-Turner ist dieses System gut ausgestattet, um anspruchsvolle Ätz- und Ascheprozesse zu bewältigen. Mit seinem einfach zu bedienenden Design ist LAM RESEARCH 203 eine gute Wahl für Organisationen mit komplexen Ätz- und Aschebedürfnissen.