Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH 223 #293748588 zu verkaufen

SEZ/LAM RESEARCH 223 ist eine High-End-Trockenätzanlage. Es handelt sich um ein produktionstaugliches System zum Ätzen von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 8 "(200mm). Das Gerät wurde entwickelt, um eine überlegene Ätzleistung und einen überlegenen Produktionsdurchsatz in Prozessmaterialien wie Silizium, Siliziumnitrid, Siliziumdioxid, Siliziumcarbid, Indiumzinnoxid und anderen technischen Materialien zu erzielen. Die Gleichmäßigkeit des Ätzens der Maschine gehört zu den höchsten im Ätzprozess erzielten. Das Werkzeug besteht aus einer Hauptkammer und einer durch zwei Lastschlösser verbundenen Transferkammer. Die Hauptkammer ist mit zwei unabhängigen Targets ausgestattet, die sowohl für Trockenätz- als auch für Ascheanwendungen verwendet werden. Die Transferkammer ist mit zwei Lastschlössern, zwei Roboterarmen und einer Teilkammer zur In-situ-Hauptkammerreinigung ausgestattet. SEZ 223 verfügt über einen leistungsstarken Multi-Source, Multi-Frequenz, HF-Generator mit Co-Sputter- und Duoprozess-Funktionen. Diese Funktionen ermöglichen es Benutzern, Ätzprofile für höchste Präzision in Form und Kontrolle zu optimieren. Der Mehrfrequenzgenerator ermöglicht auch eine einstellbare Prozesssteuerung, die es dem Anwender ermöglicht, Ätzraten und Profile in einer Vielzahl von Materialien und Ätzanwendungen einzuwählen. Darüber hinaus ist die Anlage für den Betrieb mit sehr niedrigem Druck ausgelegt. Neben der Ätzfähigkeit verfügt LAM RESEARCH 223 über erweiterte Aschefunktionen mit Optionen für selektives Trockenaschen und gleichmäßiges Trockenaschen. Das selektive Trockenaschen ermöglicht es dem Ätzmodell, lokalisierte Bereiche von Folien und Ablagerungen von Waferoberflächen zu entfernen, wodurch prozeßgleichförmige metallfreie Bereiche maximiert werden. Die gleichmäßige Trockenasche verwendet einen gleichmäßigen Prozess und erzeugt eine gleichmäßige Schicht aus abgeschiedenem Material über die Waferoberfläche. 223 verfügt auch über eine Lastsperre Dekompressionsanlage, die die Systemsicherheit und Prozessstabilität durch die Beseitigung von Verunreinigungen verbessert. Die RTP-Steuerungssoftware bietet eine fortschrittliche Prozesssteuerung, indem sie Niederdruckbetrieb, hohe Gleichmäßigkeit und höhere Plasmadichte auch bei niedrigen beschleunigten Energien erzwingt. Das Gerät bietet eine hervorragende Wiederholbarkeit und maximale Substratgleichförmigkeit. Insgesamt ist SEZ/LAM RESEARCH 223 eine fortschrittliche Ätz- und Aschemaschine, die für eine Vielzahl von Materialien und Prozessanwendungen geeignet ist. Das Tool bietet ausgezeichnete Ätzgleichmäßigkeit und erweiterte Prozesskontrolle. Die Anlage ist für den Einsatz mit verschiedenen Prozessscheiben bis 8 "(200mm) Durchmesser und für sehr niedrige Drücke optimiert. Das Modell bietet eine hervorragende Wiederholbarkeit und maximale Substratgleichförmigkeit und bietet Anwendern überlegene Ätzleistung und Produktionsdurchsatz.