Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH Chambers for SP 323 #293653786 zu verkaufen

ID: 293653786
Wafergröße: 12"
12".
SEZ/LAM RESEARCH Chambers for SP 323 ist eine fortschrittliche Ätz-/Aschemaschine für Halbleitertechnikanwendungen. Es ist in der Lage, verbesserte Oberflächenätzung und präzise chemische Asche einer breiten Palette von Materialien, einschließlich verschiedener Metalle und Glas. Der Satz von Reaktivgasmischern und -ventilen ermöglicht eine schnelle und genaue Lieferung von Plasmabearbeitungsatmosphären. Die automatische Prozesssteuerungssoftware ermöglicht den Betrieb der gesamten Einheit vom eigenen PC aus. SEZ-Kammern für SP 323 bestehen aus drei Grundelementen - einer Edelstahl-Vakuumkammer, einer Roboterprobenhandhabungsmaschine und einer speziellen Plasmaquelle. Die Vakuumkammer, die sich im Boden des Werkzeugs befindet, ist für die Handhabung von Wafern unterschiedlicher Größen (bis zu 8-Zoll-Kreise oder Quadrat) ausgelegt. Er ist mit einer ellipsoiden Prozesskammer, einem Roboterarm, einer Heizung und einem elektrostatischen Schild ausgebildet. Der Roboterarm ermöglicht eine schnelle, präzise und wiederholbare Probenbeladung und Positionierung im Asset. Die Heizung wird verwendet, um gleichmäßige Temperaturen über alle Oberflächen des Modells zu halten. Die elektrostatische Abschirmung soll die beim Ätz-/Aschevorgang entstehenden Partikel reduzieren. Die dedizierte Plasmaquelle von SEZ Chambers verbessert den Oberflächenätzprozess und bietet präzises chemisches Aschen einer breiten Palette von Materialien. Es verwendet einen asynchronen, gepulsten HF-Generator, um ein intensives Hochfrequenzfeld (RF) zwischen zwei Elektroden zu erzeugen. Dieses HF-Feld kann mit einer Frequenz von 7.5MHz bis 13MHz gesteuert oder die Abscheidefrequenz manuell an die spezifische Anforderung des Substrats angepasst werden. Auch kann die Frequenz entsprechend dem Prozesskammerdruck ausgerichtet werden, um optimale Prozessergebnisse zu gewährleisten. Der Satz von Reaktivgasmischern und -ventilen ermöglicht eine schnelle Erzeugung und Lieferung der exakten Plasmabearbeitungsatmosphären, die für den Ätz-/Ascheprozess erforderlich sind. Die Ausrüstung kann mit einer Vielzahl von Gasen wie Sauerstoff, Stickstoff, Argon, Helium, F2, NF3, SF6 und CF4 ausgestattet werden, mit einem breiten Spektrum von Lieferverhältnissen für verschiedene Verarbeitungsaufgaben. Das System verfügt auch über eine effektive Notfallreinigungseinheit, um die Sicherheit der Benutzer und ihrer Proben zu gewährleisten. Schließlich verfügt LAM RESEARCH Chambers für SP 323 über eine intuitive, grafisch basierte automatische Prozesssteuerungssoftware. Es wird verwendet, um alle Aspekte des Ätz-/Ashing-Prozesses zu definieren und auszuführen, von der Einrichtung von Rezepten bis zur Steuerung der Laufzeit jedes Prozessschritts. Diese Steuerungsmaschine bietet zuverlässige Prozesssicherheit und Wiederholbarkeit für jeden Prozessschritt. Abschließend bietet Chambers for SP 323 überlegene Ätz-/Aschefunktionen, ist vollautomatisiert und bietet zuverlässige Prozesssicherheit und Wiederholbarkeit. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften und Fähigkeiten ist es ein ideales Werkzeug für Halbleitertechnik-Anwendungen.
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