Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH DV-34 #9351032 zu verkaufen

SEZ / LAM RESEARCH DV-34
ID: 9351032
Wafergröße: 12"
Single wafer processor, 12".
SEZ/LAM RESEARCH DV-34 ist ein Ätzer oder Ascher, der für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Das Gerät verfügt über eine leistungsstarke Ionenstrahl-Abscheidungsquelle und eine programmierbare Positionsgenauigkeit, um Prozesskonsistenz und Gleichmäßigkeit zu gewährleisten. Es wurde auch entwickelt, um durch dynamische Anpassung der Prozessparameter einen außergewöhnlichen Durchsatz, Plasmaätzen hoher Dichte und eine geringe Partikelerzeugung zu bieten. SEZ DV-34 ist ein vollautomatisches System, das DC-, RF- und thermische Prozesse verwendet, um ein schnelles, hochauflösendes Ätzen potenziell komplexer Muster zu ermöglichen. Es verwendet fortgeschrittene strahlenfokussierte Abscheidung, energetisches Ionenstrahl-Ätzen und präzise Positionssteuerung, um die Gleichmäßigkeit des Vollwafers zu erreichen. Seine einzigartige Architektur verfügt über integrierte Steuerungen und Automatisierung, um Ausfallzeiten zu minimieren und gleichzeitig mit den Produktionsanforderungen Schritt zu halten. Das Gerät bietet auch eine breite Palette von Funktionen und Vorteilen für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Seine gebrauchsfertigen Substratrezepte liefern zuverlässige Ätzergebnisse bei minimaler Rüstzeit. Der modulare Aufbau ermöglicht eine flexible Prozessentwicklung und -umsetzung in einer Vielzahl von Materialien. Es bietet auch hervorragende Einheitlichkeit und Wafer-Registrierungsfähigkeit. Die Maschine ist auch hocheffizient und kostengünstig, mit etwas höherer Fließfähigkeit im Vergleich zu anderen Modellen. Schließlich wurde LAM RESEARCH DV-34 entwickelt, um die Verfügbarkeit und Robustheit der Werkzeuge mit bewährter Leistung, reduzierter Ausfallzeit und optimierter Produktivität zu maximieren. Es unterstützt auch eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich Schutz gegen Lichtbogen- und Entladungsspannungen und eine eingebaute Ionenschüttelfunktion zur Verringerung der Partikelerzeugung. Um eine zuverlässige und konsistente Produktionsleistung zu gewährleisten, verfügt die Anlage auch über schnelle Fehlererkennungs- und Wiederherstellungsfunktionen.
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