Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH DV-38DS #9040754 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9040754
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Wet station, 12"
Frontside handling
(8) Chambers
Number of chemistry: 1
Operator cassette loading
Overhead transport system (OHT)
Through the wall
Front machine section:
Robot & controller
Main PC condition
Hard drive for IC/TC
Front FFU
Buffer station
(3) Load ports
Load port access: Light curtain
Asyst ISO port
Carrier ID reader
Asyst Advan-Tag
E 84 Parallel I/O
Front handling system: ECO end-effector, ceramic
Rear machine section:
ECO
FFU
Control cabinet
Left process section
(3) PSL: Process chamber, Chuck, Spindle unit, Dispenser motors
(1) PSL: Process chamber, Chuck, Spindle unit, Dispenser motors, Regulators, MFCs, Pump valve and chemistry lines
Right process section
(3) PSR: Process chamber, Chuck, Spindle unit, Dispenser motors
(1) PSR: Process chamber, Chuck, Spindle unit, Dispenser motors, Regulators, MFCs, Pump valve and chemistry lines
Components included
ATMI
AC Rack
DVR
Exhaust line kit
IPA module
Liquid Chemistry cabinet 1:
Media 1 supply: Filtration system and sampling port
Buffer option A1: Medium, PZ10 spiking pump
Buffer option B1: No medium
Paddle wheel
DI water
Inline cooler for temperature control
Flowmeter
Liquid Chemistry cabinet 2:
Media 2 supply: Medium / Temperature
Buffer option A2: Medium, PZ10 spiking pump
Buffer option B2: No medium
Paddle wheel
Horiba CM-210 chemical analyzer: (2) Process loop, (2) Preparation loop
Flowmeter for DI water
Gas supply
CO2 Injection: No
Overall features:
White light
Transparent windows
Transformer 208V/400V CE
Frame
Leak sensor box
Submodules:
Process chamber display
Digital video recording
Currently de-installed
2006 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH DV-38DS ist eine Ätz-/Aschemaschine, die speziell zum Ätzen und Aschen von Photoresist und anderen Rückständen auf einer Vielzahl von Substraten entwickelt wurde. SEZ DV-38DS System bietet schnelles, hochpräzises Ätzen und Aschen mit Tieftemperaturprozessen und kurzen Bearbeitungszeiten. LAM RESEARCH DV-38DS unit verwendet die neuesten Halbleitertechnologien wie chemische reaktive Ionen zum Ätzen und Lampen und Laserquellen zum Aschen. Es ist in der Lage, die Verarbeitung über eine breite Palette von Wafergrößen, von 4 „bis 12“. Die Maschine wurde entwickelt, um eine einheitliche, hochwertige Abdeckung für verschiedene Substrate wie Silizium, Oxide, Metalle und Keramik bereitzustellen. DV-38DS Werkzeug besteht aus zwei Teilen - dem Werkzeug selbst und dem zugehörigen Steuerelement. Das Werkzeug ist ein kompaktes, vollautomatisches Modell, das auf Benutzerfreundlichkeit und effizienten Betrieb ausgelegt ist. Sie umfasst einen Hochleistungsspeiser zum Be- und Entladen von Wafern, eine Hochleistungsätzkammer zum Ätzen von Photoresist und anderen Rückständen sowie eine Aschekammer zum Verschmelzen von Schichten. Die Ätzkammer und die Aschkammer sind beide mit fortschrittlichen thermischen Steuerungssystemen ausgestattet, um optimale Verarbeitungsergebnisse und eine gleichmäßige Abdeckung zu gewährleisten. Das Steuergerät ist so konzipiert, dass es dem Anwender eine präzise Kontrolle über das SEZ/LAM RESEARCH DV-38DS System bietet. Das Gerät ist mit einer intuitiven Benutzeroberfläche ausgestattet, mit der Benutzer mit wenigen Klicks Änderungen an ihren Prozessen vornehmen können. Die Benutzeroberfläche ermöglicht es Benutzern, die Maschine einzurichten und den Status des Werkzeugs in Echtzeit zu überprüfen. Darüber hinaus kann das Steuerelement mit einem Remotecomputer verknüpft werden, was einen einfachen Fernzugriff auf die Diagnosedaten des Modells ermöglicht. SEZ DV-38DS Ausrüstung ist sowohl für niedrige Volumen und hohe Volumen Operationen ausgelegt. Sein erweitertes Steuerungssystem kann leicht an eine Vielzahl von Verarbeitungsaufgaben angepasst werden. Darüber hinaus ist das Gerät mit verschiedenen Sicherheitsmerkmalen wie Notabschaltung ausgelegt, um die Sicherheit seiner Bediener und Ausrüstung zu gewährleisten. Insgesamt ist LAM RESEARCH DV-38DS eine fortschrittliche Ätz-/Aschermaschine, die speziell zum Ätzen und Aschen von Photoresist und anderen Rückständen auf einer Vielzahl von Substraten entwickelt wurde. Sein erweitertes Steuerungstool ermöglicht eine präzise Steuerung und seine intuitive Benutzeroberfläche macht es einfach einzurichten und zu bedienen. Die Sicherheitsmerkmale der Anlage gewährleisten die Sicherheit ihrer Bediener und Ausrüstungen und die leistungsstarke Zuführung ermöglicht ein effizientes Be- und Entladen von Wafern, was DV-38DS zu einer guten Wahl für eine Vielzahl von Ätz- und Ascheprozessen macht.
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