Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH SP 101 #9276809 zu verkaufen

SEZ / LAM RESEARCH SP 101
ID: 9276809
Wafergröße: 6"
Spin etcher, 6".
SEZ/LAM RESEARCH SP 101 ist eine Ätz- und Aschevorrichtung, die sowohl für das Nass- als auch für das Trockenätzen konzipiert ist. Es ist ein ideales Werkzeug für eine Vielzahl von Prozess-R & D-Anwendungen wie Wafer-Oberflächenpassivierung, Wafer-Rückenschleifen und Dünnschichtabscheidung. SEZ SP 101 basiert auf den bewährten Ätz- und Aschetechnologien von SEZ/LAM. Dieses System bietet verbesserte Prozessgleichförmigkeit und Wiederholbarkeit. Die integrierte Prozesshardware und flexible Softwaresteuerungslösung ermöglicht es LAM RESEARCH SP 101, eine breite Palette von Substraten wie Halbleiterscheiben, Nanodrähte, Solarzellen und Dünnschichtgeräte zu verarbeiten. SP 101 wurde entwickelt, um eine präzise Kontrolle über die Umgebung der Probe zu ermöglichen, die für eine präzise Prozesssteuerung entscheidend ist. Es verfügt über einen erweiterten Temperaturkammerregler und die Fähigkeit, ein genaues Temperaturprofil innerhalb der Probenkammer beizubehalten, um die bestmögliche Prozesssteuerung zu erhalten. Darüber hinaus liefert SEZ/LAM RESEARCH SP 101 durch seine integrierten programmierbaren Elektronenstrahlen auch genaue Ätzparameter. Dies ermöglicht ein präzises Sputtern, chemisches Ätzen und Aschen von Materialien. Das Gerät verfügt auch über eine saubere Kehrtechnik. Dies ermöglicht eine bessere Wafer-Sauberkeit und sorgt für eine glatte Oberfläche zur weiteren Strukturierung und Dünnschichtabscheidung. SEZ SP 101 ist benutzerfreundlich und bietet eine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche (GUI). Über die GUI können Benutzer das Prozessrezept auswählen, Ätzparameter eingeben und Prozessrezepte für die zukünftige Verwendung speichern. Die intuitive GUI ermöglicht zudem eine effiziente mehrstufige Ätz- und Ascheprozesssteuerung. LAM RESEARCH SP 101 ist eine zuverlässige und robuste Ätz- und Aschemaschine, die auf die Bedürfnisse von Forschungslabors ausgelegt ist. Es verfügt über eine genaue Prozesssteuerung, die eine präzise Dünnschichtabscheidung sowie eine verbesserte Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. Darüber hinaus vereinfacht die benutzerfreundliche grafische Oberfläche das Ätzen und Auswerten und ermöglicht es dem Benutzer, Prozessrezepte für die zukünftige Verwendung zu speichern.
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