Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH SP 201 #9174299 zu verkaufen

SEZ/LAM RESEARCH SP 201 ist eine Plasmaätz-/Aschereinrichtung zur Herstellung hochwertiger Dünnschichtprozesse. Das System ist in der Lage, eine breite Palette von Substraten zu verarbeiten, darunter Aluminium, Kupfer, Polysilizium, Nickel und andere Materialien, die typischerweise für die Herstellung moderner mikroelektronischer Bauelemente verwendet werden. SEZ SP 201 verwendet Standard-Ätzchemie-Techniken, wie reaktives Ionenätzen (RIE), chemische Dampfabscheidung (CVD) und Ionenimplantationstechnologien. Das Gerät verfügt zudem über eine fortschrittliche optische Waferausrichtmaschine, die eine präzise Steuerung von Prozessgeometrien und Profilen gewährleistet. LAM RESEARCH SP201 kann mit mehreren Waferkammern und Kammern für verschiedene Prozesse konfiguriert werden und ermöglicht so Multitasking in einer Produktionsumgebung. Mit dieser Funktion kann das Tool komplexere Aufgaben erledigen, ohne die Hardwareanforderungen zu erhöhen. Der Kammerdruck in SP 201 wird mit einer Reihe von Ventilen und Vakuumpumpen aufrechterhalten. Der Vakuumdruck wird durch ein Präzisionsmessgerät überwacht, und das Modell ist in der Lage, einen Vakuumdruck in der Größenordnung von 10-5 Torr auf dem Wafer zu erzeugen. SP201 verwendet Gasgemische, die ein inertes Gas wie Argon oder Stickstoff enthalten, kombiniert mit einem reaktiven Gas wie Sauerstoff oder Fluor. Durch die Einstellung des richtigen Massendurchsatzes von Gasen kann eine gewünschte Ätztiefe erreicht werden. Die Überwachung der Gase erfolgt in Echtzeit über Massendurchflussregler, die für die korrekte Geschwindigkeit des Ätzprozesses sorgen. Die Wafer werden beim Ätzen unter hoher negativer Vorspannung gehalten. Die Wafer werden auf ein ElectroStatic Chuck gelegt und so gesichert, dass während des Ätzprozesses keine Vibrationen entstehen. Schließlich enthält LAM RESEARCH SP 201 einen Hochleistungs-HF-Generator, der eine hohe Hochfrequenzenergie erzeugt. Mit dieser elektrischen Energie wird das für die Ätzreaktion erforderliche Plasma erzeugt. Durch die Regelung der Leistungspegel und Impulsbreiten des Generators kann eine präzise Steuerung des Ätzprozesses aufrechterhalten werden. Abschließend ist SEZ/LAM RESEARCH SP201 eine fortschrittliche Ätz-/Aschemaschine zur Herstellung hochwertiger Dünnschichtprozesse. Das System eignet sich gut für Produktionsumgebungen und bietet Steuerung in Ätztiefe, Präzisionsscheibenausrichtung und Kammerdruck. Das Gerät verwendet inerte und reaktive Gase, ein ElectroStatic Chuck und Hochleistungs-HF-Generatoren für effektives Ätzen.