Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH SP 203 #9206214 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9206214
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2002
Spin etcher, 8"
Indexer type: 200 mm
Handling type: FS/BS
Main unit: SMIF
Heating system: RT to 65°C
CDS System: With buffer station
Standard pin chuck: 200/200/200
SMIF Type: 200 mm
End effector
ECO Gripper loaded / Unloaded
Robot system
Media flow meter
DI Flow meter
Pressure regulator for N2 & CDA
Exhaust system up
Suction nozzle
Heater exchanger (HEX) for Med 1, Med 2
Mini-environment with FFU
DI & N2 Filter set
Power distribution box
Standard PC for SP203
Status lamp (RYGB)
Buzzer
Chemical dispense system:
Chemical cabinet with flexible filling
Chemical control cabinet
Temperature: Medium 1 / for Ti/TiN chemistry
Temperature: Medium 2 / for Al chemistry
Chemical control cabinet
Options:
Transformer
UPS
Standard chuck
Ionizer
N2 MFC
Concentration monitor
Not includes:
Megasonic
Under cut rinse
CO2 Injection
Endpoint detection
IR Dry lamp
Maximum voltage: 230 ~ 380 V
CE Marked
2002 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH SP 203 ist eine Hochleistungs-Ätz-/Ascheausrüstung mit einer einstellbaren Gasformulierung, die speziell für die Erhöhung des Durchsatzes in verschiedenen reaktiven Ionenätz- und Ascheprozessanwendungen entwickelt wurde. Das System verfügt über ein einzigartiges Prozesskammerdesign, das ein außergewöhnlich großes Gasvolumen bereitstellt, um eine gleichmäßige Gaszufuhr und eine gleichmäßige Plasmadichte zu gewährleisten. SEZ SP 203 kann auch Substrate von bis zu 25 Zoll Größe verarbeiten und hat maximal 10 Gaskanäle für mehrere Ätzprozesse. Das Gerät verfügt auch über eine erweiterte Diagnosefähigkeit, die es Anwendern ermöglicht, ausgewählte Plasmaparameter zu überwachen und Echtzeit-Anpassungen an die Kammerumgebung für eine genaue Prozesssteuerung vorzunehmen. Es hat auch eine erweiterte aktive Ionenbeschränkungsfunktion, die die Wiederholbarkeit des Prozesses verbessert und die manuelle Abschirmung überflüssig macht. Die Prozesssteuerungsmöglichkeiten an der Maschine sind robust und umfassen die Fähigkeit, die Ionenquelle, die Substratvorspannung und die Kammertemperatur unabhängig zu modulieren. Mit dieser Fähigkeit können Anwender den Prozess fein anpassen, um die Ergebnisse für ihre jeweiligen Materialien und Prozessbedingungen zu optimieren. Das Tool bietet auch manuelle und automatisierte Steuerung, um Asset-Vorgänge zu vereinfachen. LAM RESEARCH SP 203 ist ein umfassendes Ätz-/Aschemodell mit der Fähigkeit, eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten. Seine fortschrittliche Diagnostik, einstellbare Gasformulierung und fein einstellbare Prozessparameter machen es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich dielektrisches und Metallätzen, Aschen, Verdünnen und Dünnschichtabscheidung. Es ist eine effektive Lösung zur Erhöhung des Durchsatzes bei der Herstellung verschiedener Halbleiterbauelemente, wie Speicherchips, Mikrocontroller, Anzeigetreiber und andere Halbleiterbauelemente.
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