Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH SP 203 #9206214 zu verkaufen

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ID: 9206214
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2002
Spin etcher, 8" Indexer type: 200 mm Handling type: FS/BS Main unit: SMIF Heating system: RT to 65°C CDS System: With buffer station Standard pin chuck: 200/200/200 SMIF Type: 200 mm End effector ECO Gripper loaded / Unloaded Robot system Media flow meter DI Flow meter Pressure regulator for N2 & CDA Exhaust system up Suction nozzle Heater exchanger (HEX) for Med 1, Med 2 Mini-environment with FFU DI & N2 Filter set Power distribution box Standard PC for SP203 Status lamp (RYGB) Buzzer Chemical dispense system: Chemical cabinet with flexible filling Chemical control cabinet Temperature: Medium 1 / for Ti/TiN chemistry Temperature: Medium 2 / for Al chemistry Chemical control cabinet Options: Transformer UPS Standard chuck Ionizer N2 MFC Concentration monitor Not includes: Megasonic Under cut rinse CO2 Injection Endpoint detection IR Dry lamp Maximum voltage: 230 ~ 380 V CE Marked 2002 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH SP 203 ist eine Hochleistungs-Ätz-/Ascheausrüstung mit einer einstellbaren Gasformulierung, die speziell für die Erhöhung des Durchsatzes in verschiedenen reaktiven Ionenätz- und Ascheprozessanwendungen entwickelt wurde. Das System verfügt über ein einzigartiges Prozesskammerdesign, das ein außergewöhnlich großes Gasvolumen bereitstellt, um eine gleichmäßige Gaszufuhr und eine gleichmäßige Plasmadichte zu gewährleisten. SEZ SP 203 kann auch Substrate von bis zu 25 Zoll Größe verarbeiten und hat maximal 10 Gaskanäle für mehrere Ätzprozesse. Das Gerät verfügt auch über eine erweiterte Diagnosefähigkeit, die es Anwendern ermöglicht, ausgewählte Plasmaparameter zu überwachen und Echtzeit-Anpassungen an die Kammerumgebung für eine genaue Prozesssteuerung vorzunehmen. Es hat auch eine erweiterte aktive Ionenbeschränkungsfunktion, die die Wiederholbarkeit des Prozesses verbessert und die manuelle Abschirmung überflüssig macht. Die Prozesssteuerungsmöglichkeiten an der Maschine sind robust und umfassen die Fähigkeit, die Ionenquelle, die Substratvorspannung und die Kammertemperatur unabhängig zu modulieren. Mit dieser Fähigkeit können Anwender den Prozess fein anpassen, um die Ergebnisse für ihre jeweiligen Materialien und Prozessbedingungen zu optimieren. Das Tool bietet auch manuelle und automatisierte Steuerung, um Asset-Vorgänge zu vereinfachen. LAM RESEARCH SP 203 ist ein umfassendes Ätz-/Aschemodell mit der Fähigkeit, eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten. Seine fortschrittliche Diagnostik, einstellbare Gasformulierung und fein einstellbare Prozessparameter machen es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich dielektrisches und Metallätzen, Aschen, Verdünnen und Dünnschichtabscheidung. Es ist eine effektive Lösung zur Erhöhung des Durchsatzes bei der Herstellung verschiedener Halbleiterbauelemente, wie Speicherchips, Mikrocontroller, Anzeigetreiber und andere Halbleiterbauelemente.
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