Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH SP 203 #9228170 zu verkaufen

SEZ / LAM RESEARCH SP 203
ID: 9228170
Weinlese: 2001
Spin etcher With chamber 2001 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH SP 203 ist eine fortschrittliche RIE (Reactive-Ion Etching) Ätzausrüstung, die für die Herstellung und Entwicklung komplexer Oberflächenmikromaschinen entwickelt wurde. Dieses vielseitige Ätzsystem ist in der Lage, fast jede Oberfläche einschließlich der harten und weichen Materialien zu ätzen. Es verfügt über eine fortschrittliche und hocheffiziente Advanced Plasma Source (APS) mit einem leistungsstarken Gemisch von Gasen und zwei unabhängigen Atomquellen, die es sowohl isotrop als auch anisotrop ätzfähig machen. Darüber hinaus verfügt SEZ SP 203 über eine leistungsstarke ECR-Quelle (Electron Cyclotron Resonance), die eine außergewöhnliche Gleichmäßigkeit und Selektivität im Ätzprozess bietet. LAM RESEARCH SP 203 eignet sich ideal zum hochpräzisen Ätzen einer Vielzahl von Materialien, einschließlich, aber nicht beschränkt auf Halbleitermaterialien wie Silizium, Galliumarsenid, SiC, GaN und InGaAs, und Dielektrika wie Siliziumdioxid, Siliziumnitrid und Polysiid. Diese fortschrittliche Ätzeinheit kann auch zum Ätzen von Metallen wie Aluminium, Titan und anderen Materialien bei der Herstellung von MEMS-Geräten (mikro-elektromechanische Systeme) verwendet werden. Die Maschine ist mit einem hochmodernen Ash Containment Filter Tool (ACFS) zum Ätzen von Abfalldämmung und Filtration ausgestattet. Dieses hocheffiziente ACFS bietet verbesserte Ätzvorgänge mit geringerem ökologischen Fußabdruck, geringeren Kosten und verbesserter Prozesskontrolle. SP 203 ist auch in der Lage, die Prozesssteuerung über fortgeschrittene Prozesscontroller und Monitoring Asset. Dieses fortschrittliche Überwachungsmodell kann verwendet werden, um die Leistung der Ätzausrüstung zu überwachen und zu analysieren. SEZ/LAM RESEARCH SP 203 ist zudem mit einer benutzerfreundlichen LCD-Touchscreen-Benutzeroberfläche zur vereinfachten Bedienung und Einstellung der Ätzparameter ausgestattet. Darüber hinaus ist dieses fortschrittliche Ätzsystem mit der ESISEZ-Software kompatibel, so dass Benutzer alle Aspekte des Ätzprozesses überwachen und steuern und die Ergebnisse des Prozesses analysieren können. Mit seiner fortschrittlichen Plasmaquelle, seiner robusten ACFS-Abfallfiltrationseinheit, einer hocheffizienten Prozessüberwachungsmaschine und einer benutzerfreundlichen Schnittstelle ist SEZ SP 203 ein leistungsstarkes Ätzwerkzeug, das sich ideal für die Herstellung und Entwicklung mikrogefertigter Strukturen eignet.
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