Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH SP 304 #293818314 zu verkaufen

SEZ/LAM RESEARCH SP 304 ist ein Plasmaätzer/Ascher für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Es hat die Fähigkeit, Halbleitermaterialien mit überlegenem Durchsatz und Genauigkeit zu ätzen, Asche und amorphisieren. Dieses Gerät eignet sich gut zum Ätzen und Amorphisieren von Fotolackmasken für den Chip-Prototyping sowie zum Nachschleifen von Oberflächen für die LED, TFT und LCD-Herstellung. SEZ SP 304 ist mit einem fortschrittlichen Skalarsteuerungssystem ausgestattet, das eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Prozesswiederholbarkeit über eine breite Palette von Substratkonfigurationen bietet. Diese Einheit ermöglicht es Benutzern, verschiedene Verarbeitungsparameter und Arbeitszeiten exakt einzustellen, die jederzeit geändert oder aus innerhalb der Maschine erstellten Programmen geladen werden können. LAM RESEARCH SP 304 verwendet auch einen Hochleistungs-HF-Generator, der ein Hochdurchsatz-Ätzen und Aschen auf einer Vielzahl von Substraten ermöglicht. SP 304 verfügt über eine einzigartige Kombination aus verbesserten Ätz- und Aschefunktionen, wodurch Substrate schnell und mit großer Genauigkeit geätzt und adert werden können. Dies geschieht durch die Etchesource und Ashersource, zwei getrennte Plasmaquellen, die in Kombination oder nacheinander zum hochpräzisen Ätzen und Aschen verwendet werden können. Durch eine Gleichspannungsquelle und eine Mikrowellenquelle können Benutzer Ätz- und Ascheprozesse gleichzeitig ausführen, was kürzere Laufzeiten ermöglicht. SEZ/LAM RESEARCH SP 304 nutzt auch ein Doppelkammerdesign, das eine leichtere Substratbelastung und einen verbesserten Zugang zum Oberdeck bietet. Die obere Kammer verfügt über mehrere Objektive und ist mit einer Quarzplattenheizung zur präzisen Temperaturregelung ausgestattet. Dadurch wird eine gleichbleibende Substrattemperatur für eine verbesserte Prozesswiederholbarkeit gewährleistet. SEZ SP 304 ist ein leistungsstarker Ätzer/Ascher, der hervorragenden Durchsatz und Genauigkeit für eine Vielzahl von Halbleitermaterialien bietet. Mit seinem fortschrittlichen Skalar-Steuerwerkzeug, dem Zweikammerdesign und den verbesserten Ätz- und Ascheeigenschaften bietet es eine zuverlässige, wiederholbare Plattform zur Herstellung geätzter/aschierter Substrate mit hoher Genauigkeit und konsistentem Durchsatz.