Gebraucht SOLAR SEMI ENGINEERING E6710 #293649341 zu verkaufen

ID: 293649341
Porous silicon etching system Full-area porous Si layer formation Single wafer processing with fast cycle time (10 wafers per hour) Wafer: Round, 6" / Square, 5" Internal circulation of etchant Upper controls panels Laminar air flow wafer processing area Wet plenum area Sample station Fan and HEPA filter housing.
SOLAR SEMI ENGINEERING E6710 ist ein leistungsstarker Ätz-/Ascheprozess, der eine genaue und wiederholbare Oberflächenbearbeitung ermöglicht. Diese Maschine ist eine fortschrittliche Version des Standard-Ätz-/Ascheverfahrens, das ein Standardverfahren zum Auftragen einer Schutzschicht auf eine Reihe von Oberflächen einschließlich Metallen, Kunststoffen, Polymeren und Verbundstoffen ist. Dieses fortschrittliche Ätz-/Ascheverfahren ist für Anwendungen konzipiert, die Präzisionsflächen erfordern, die mit außergewöhnlicher Konsistenz trocken geätzt und adert werden müssen. E6710 verfügt über verschiedene einstellbare Parameter, die verwendet werden können, um eine breite Palette von Prozeßrezepten speziell für das zu verarbeitende Material zu erstellen. Die Steuerung der Maschine ermöglicht es Benutzern, die Prozessparameter anzupassen, um die gewünschte Oberflächengüte und chemische Zusammensetzung zu erreichen. Die Steuerung umfasst auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, die die Maschine abschalten können, wenn eine anormale Prozessänderung auftritt. SOLAR SEMI ENGINEERING E6710 nutzt hochintensive ultraviolette (UV) Strahlung, die auf das zu verarbeitende Material fokussiert ist. Diese intensive UV-Belichtung beschleunigt die photochemische Reaktion erheblich, wodurch chemische Bindungen brechen und anschließend von der Oberfläche entfernt werden. Die nach dem Ätz-/Ascheverfahren entfernten chemischen Verbindungen sind typischerweise Schwefelverbindungen oder Kohlenwasserstoffverbindungen, die häufig auf der Oberfläche verschiedener Materialien vorhanden sind. Darüber hinaus kann das intensive UV-Licht verwendet werden, um die Oberflächenchemie zu modifizieren, wie die Schaffung von hydrophoben (Abwehrwasser) und hydrophilen (zieht Wasser) Oberflächen. E6710 hat einen effektiven Prozessbereich von etwa 0,1-400 mm, mit Prozessverträglichkeit mit einer breiten Palette von Materialien bis 10 mm Dicke. Zusätzlich ist die Maschine mit einem Düsensystem ausgestattet, das eine präzise Steuerung des Plasmastroms und seiner Richtung ermöglicht. Dies ermöglicht präzisere und konsistentere Ätz-/Aschevorgänge. Die Maschine verwendet auch eine geschlossene Plasmakammer, die Bedienungspersonal vor schädlicher UVC-Strahlung schützt. Diese Kammer hilft auch, das von der Maschine emittierte UV-Licht einzudämmen. SOLAR SEMI ENGINEERING E6710 ist eine ausgezeichnete Wahl für diejenigen, die eine leistungsstarke Ätz-/Ascheplattform suchen. Diese Maschine bietet eine präzise und wiederholbare Oberflächenbearbeitung, die zu einer Vielzahl von Oberflächenbearbeitungen führen kann. Darüber hinaus sind die Sicherheitsmerkmale und die geschlossene Plasmakammer eine ideale Wahl für Anwender, die eine zuverlässige und sichere Ätz-/Aschemaschine suchen.
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