Gebraucht SPTS LPX APS Pro #9294793 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9294793
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2014
Etcher, 8"
Single chamber (Aluminium)
Load-locked
Capable, 8"
Process chamber: APS PM
APS PM Chamber:
SiC / GaN
Oxide
Nitride
Deep oxide
Glasses
Sapphire
PZT / Pt
LPX Single Wafer Load Lock
Multiplex ICP process chamber:
Magnetic and heated chamber
LEYBOLD Turbo pump
Heated VAT pendulum valve
Backside helium cooling
Extracted gas box with orbitally welded gas lines
Electronics Rack
LCD flat panel monitor
MKS Capacitance manometer (0.1 Torr)
MKS Spectrum RF generator (Source)
MKS Spectrum RF generator (Bias)
VERITY optical endpoint detector
EDWARDS iH80 vacuum pump (or equivalent)
ALCATEL ACP28 vacuum pump (or equivalent)
SMC Thermo chiller
System cables
Gas box: N2, SF6, He, Ar, O2
Operations manuals
Electrical drawings
Documentation (Complete manual set)
System power: 400 V, 80 A, 50 Hz, 3 PH+N
2014 vintage.
SPTS LPX APS Pro ist eine fortschrittliche Waferbearbeitungs-Ätz- und Ascheausrüstung, die speziell für Forschung und industrielle Anwendungen entwickelt wurde. Das System besteht aus einer fortschrittlichen SmartProcess™-Plattform mit den neuesten Technologien sowohl beim Front-End-Be- und Entladen als auch bei der In-situ-Prozesssteuerung und -überwachung. Das Gerät ist äußerst zuverlässig, schnell und effizient und bietet hervorragende Benutzerfreundlichkeit, Skalierbarkeit und Flexibilität. Zu den Hauptmerkmalen gehören: Hohe Ätz- und Ascheeffizienz - Die Maschine ist mit einem fortschrittlichen Plasmagenerator und fortschrittlichen Gasmischsystemen ausgestattet, die überlegene Präzision und Kontrolle über die Ätz- und Ascheprozesse bieten. Dadurch können Anwender mit weniger Iterationen und kürzeren Prozesszeiten einen besseren Durchsatz erzielen. SmartProcess™ Plattform - Das Tool ist mit einer fortschrittlichen Prozessautomatisierungsplattform ausgestattet, mit der Benutzer ihre Prozessparameter und -einstellungen anpassen können. Auf diese Weise können Anwender das Asset für ihre spezifischen Anforderungen optimieren und Effizienz und Leistung maximieren. In-situ Prozesssteuerung und -überwachung - Das Modell ist mit einer leistungsstarken Prozessüberwachungseinrichtung ausgestattet, die eine Echtzeit-Überwachung und Kontrolle der Ätz- und Ascheprozesse ermöglicht. So können Benutzer mögliche Probleme schnell erkennen und ihre Prozesseinstellungen entsprechend anpassen. Vielseitigkeit - Das System ist sehr vielseitig einsetzbar und kann mit verschiedenen Arten von Wafern wie Silizium, Silizium-on-Isolator (SOI), Epitaxie und Galliumarsenid (GaAs) verwendet werden. Darüber hinaus kann das Gerät für eine Vielzahl von Anwendungen wie Lithographie, Tiefenreaktives Ionenätzen (DRIE) und Ionenfräsen eingesetzt werden. Einfach zu bedienen - Die Maschine verfügt über eine intuitive benutzerfreundliche Oberfläche, mit der Benutzer ihre Prozesse schnell und einfach einrichten können. Darüber hinaus umfasst das Tool auch umfassende Dokumentations- und Schulungsmaterialien, mit denen Anwender das Asset schnell und einfach beherrschen können. Hochpräzise Technik - Das Modell ist mit hochpräziser Technik für überlegene Genauigkeit und Kontrolle konzipiert. Darüber hinaus ist es auch für längere Lebensdauer und minimale Wartungskosten ausgelegt. Skalierbarkeit - Die Ausrüstung ist mit modularen Komponenten ausgelegt, die leicht konfiguriert werden können, um größere und komplexere Ätz- und Aschesysteme zu erstellen. Insgesamt ist LPX APS Pro ein fortschrittliches Ätz- und Aschesystem, das modernste Technologien mit hoher Präzisionstechnik für optimale Effizienz, Leistung und Genauigkeit kombiniert. Es eignet sich sowohl für Forschung als auch für industrielle Anwendungen und ist äußerst zuverlässig, schnell und einfach zu bedienen.
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