Gebraucht STS / CPX Multiplex ICP #293619106 zu verkaufen

STS/CPX Multiplex ICP ist eine hochmoderne, großflächige Ätz-/Aschermaschine von Applied Materials. Es ist ein voll integriertes Mehrstrahlsystem, das eine Ionenquelle, eine magnetoptische Konfiguration und eine hochpräzise Abscheideplattform zur präzisen kristallinen Filmtiefensteuerung integriert. Das Gerät ist mit einer Dual-Ionen-Quelle ausgestattet, die eine Reihe von Materialien von Germanium bis Gallium verarbeiten kann. Die Doppelquelle ermöglicht das gleichzeitige Ätzen von zwei Schichten, wodurch ein präziseres Ätzprofil als eine einzige Quelle erreicht wird. Es bietet auch eine breite Palette von Ätzgasen, so dass die Fähigkeit der Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien. Die Ionenstrahlen können mit hoher Präzision auf den Standort fokussiert werden, was sowohl qualitativ hochwertige Ätzprofile als auch niedrige Fehlerraten ermöglicht. Die Substrathalterkonstruktion bietet eine stabile Plattform zur präzisen Steuerung der Substratabscheidung. Die Maschine nutzt eine leistungsstarke magnetoptische Konfiguration mit einstellbarer Magnetleistung, die extrem präzise Ätzprofile und eine präzise Kontrolle der Dicke der kristallinen Folie ermöglicht. Dieses Werkzeug bietet eine präzise Steuerung des Ätzprofils sowie eine Ätzrate von bis zu 800 nm/min. Die hohe Leistung ermöglicht eine präzise Steuerung der Ionenstrahlparameter, einschließlich Ionenenergie und -reichweite, Strahldurchmesser und Abtastgeschwindigkeit, um die Prozesskontrolle zu erhöhen. Darüber hinaus trägt die Winkeldispersionsbegrenzungsvorrichtung dazu bei, die negativen Auswirkungen der sekundären Ionenstreuung zu reduzieren und die präzise Form der geätzten Funktion sicherzustellen. STS Multiplex ICP verfügt über eine fortschrittliche Plasmakontrolle, die es dem Asset ermöglicht, ultra hohe Vakuumraten bei niedrigen In-situ-Restgasdrücken zu erreichen. Dieses Modell bietet auch eine innovative Decke montiert Plasma-Controller, so dass eine verbesserte Reproduzierbarkeit und vereinfachte Rezepturentwicklung. Schließlich kommt diese Ausrüstung mit einem umfassenden integrierten Softwarepaket, das ein Modellierungs-Toolkit und eine Benutzeroberfläche enthält. Das Modellierungs-Toolkit unterstützt Ingenieure bei der Optimierung ihrer Ätzprozesse, während die Benutzeroberfläche das Schreiben und Ausführen von Rezepten für eine schnelle Prozessentwicklung erleichtert. Es ermöglicht auch eine Rezept-Verarbeitung von vielen verschiedenen Materialien und Substraten. CPX Multiplex ICP ist ein idealer Ätzer/Ascher für jede industrielle oder Forschungsanwendung. Mit einer Dual-Ionen-Quelle, fortschrittlicher Plasmasteuerung und einer hochpräzisen Abscheidungsplattform bietet dieses System eine präzise Steuerung der Ätzrate und der Merkmalsgeometrie und eignet sich somit gut für die anspruchsvollsten Ätzprozesse.