Gebraucht STS / CPX Multiplex ICP #293684725 zu verkaufen

ID: 293684725
Wafergröße: 8"
Etcher, 8".
STS/CPX Multiplex ICP ist ein Ätzer/Ascher für hochpräzise Ätz- und Ascheprozesse, ideal für die Laborumgebung. Der Ätzer/Ascher verfügt über einen integrierten, modularen Aufbau mit digitaler Temperatur-, Gas- und Druckregelung. STS Multiplex ICP verwendet ionisierte oder plasmabasierte Ätz- und Aschetechnologie mit Argon-, Xenon- oder Kryptongasen, um extrem präzise Ätzprozesse auf einer Vielzahl von Substraten zu erzielen. Das Gerät nutzt eine Mischung aus gepulster Gleichstrom-Elektrizität und einer bestimmten Hochfrequenz (RF), um ionisierte Partikel oder Plasma zu erzeugen, die dann der Oberfläche des Substrats zugeführt werden. Die präzise Frequenz sorgt dafür, dass genau die richtige Temperatur und Dichte des Plasmas erreicht wird, um die erforderlichen präzisen Ätz- und Ascheprozesse zu erreichen. Das System nutzt mehrere Kanäle der Energiezufuhr, um eine präzise und gleichmäßige Plasmazufuhr zu gewährleisten und das präzise Ätzen oder Aschen selbst der empfindlichsten Substrate zu gewährleisten. Die präzise Plasma- und Stromversorgung von CPX Multiplex ICP kann selbst empfindlichste Substrate ohne Schadensgefahr ätzen und aschen. Das Gerät arbeitet mit variabler Frequenz und Leistung, so dass der Bediener den Ätzprozess auf die Art und Dicke des Substrats anpassen kann. Die Genauigkeit des Ätz- und Ascheprozesses der Maschine wird durch die Einbeziehung einer variablen Frequenzabstimmung weiter verbessert, die hilft, eine konsistente Prozessausbeute und Wiederholbarkeit über mehrere Targets und Substrate zu erhalten. Das Werkzeug ist zudem hochgenau und vielseitig einsetzbar und verfügt über ein Prozessfenster von bis zu 10.000 cm/s, eine Temperatur- und Druckregelung von bis zu 400 Grad Celcius bzw. 0.001mBar. Das vielseitige Power Delivery Asset von Multiplex ICP ermöglicht eine Vielzahl von Ätz- und Ascheprozessen auf verschiedenen Substraten. STS/CPX Multiplex ICP von STS ist ein hochgenaues und vielseitiges Ätz- und Aschemodell, das auf die Laborumgebung zugeschnitten ist und präzise geätzte und aschte Werkstücke auch auf den empfindlichsten Substraten liefert. Das Gerät verfügt über digitale Temperatur-, Gas- und Drucksteuerung, mehrere Kanäle der Leistungsabgabe und variabler Frequenzabstimmung, um präzise und wiederholbare Ätz- und Ascheprozesse zu gewährleisten. Der Ätz- und Aschevorgang des Systems kann bei bis zu 10.000cm/s und Temperaturen von bis zu 400 Grad Celcius abgeschlossen werden.
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