Gebraucht STS / CPX Multiplex ICP #293807045 zu verkaufen
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ID: 293807045
Wafergröße: 3"-8"
Weinlese: 2001
Etcher, 3"-8"
ESC Chuck
JULABO HT60 Heater
Ceramics
Spare modules
(2) Weighted clamps
Gas configuration:
Gas / Size
SF6 / 50 SCCM
He / 300 SCCM
Ar / 100 SCCM
O2 / 100 SCCM
SF6 / 600 SCCM
C4F8 / 400 SCCM
Does not include:
Rough pump
Chiller
2001 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP ist ein Ätzer/Ascher. Es wurde entwickelt, um Präzisionsätzen, Aschen und physikalisch-chemische Verarbeitung anzubieten. Das Gerät nutzt multiplexierte Reaktionschemien für mehr Effizienz und Kontrolle. STS bietet hervorragende Ätz- und Ascheleistungen mit Ätzraten bis zu 20 nm/min und optionalen N2O Low Energy Non-Contact Etching (LENTE) -Funktionen. Das Multiplexkammersystem bietet eine automatische und präzise Ätzschrittdefinition mit der Fähigkeit, komplexe Ätzfolgen in mehreren Ätzkammern parallel durchzuführen. Die Chargengröße der Einheit beträgt bis zu 24 Substrateinheiten von 200mm (8 Zoll) mit orientierter oder in Si-Träger mit bis zu 1500W HF-Leistung abgedichteter Ausrichtung. Die Kammerkonstruktion des ICP umfasst eine Reaktionskammer mit mehreren induktiv gekoppelten Plasmaquellen, die unabhängig voneinander laufen können, so dass die Maschine leicht zwischen mehreren Ätz- oder Aschechemien wechseln kann. Das Tool ist mit Automatisierungsfunktionen wie Rezeptdefinition, Autofokus und Laufzeit-Röntgenüberwachung einer Quarzsensorplatte ausgestattet, die zur präzisen Dickenkontrolle und Tiefenprofilmanipulation verwendet wird. Darüber hinaus bietet STS Multiplex ICP einzigartige Thermomanagementfunktionen, wie die Einführung von vier Hochleistungslüftern zur Optimierung der Wärmeaustauscheffizienz und die Auswahl von Kühlzeit und Temperatur. Das ICP-Design ermöglicht es Benutzern auch, ihr bevorzugtes Wafer-Genehmigungsobjekt auszuwählen. Ein externer Servoscanner kann für Wafer-für-Wafer-Laden und Entladen verwendet werden, oder ein integrierter automatischer Wafer-Lastscanner kann für einen automatisierten Prozess verwendet werden. Darüber hinaus ist das ICP mit einem internen Stromversorgungs- und Steuerungsmodell ausgestattet, mit dem Benutzer ihre Prozessparameter für maximale Wiederholbarkeit anpassen können. CPX Multiplex ICP ist für den Einsatz in der Herstellung und Verpackung von MEMS, RF-MEMS, Halbleitern und integrierten Schaltungen konzipiert. Es ist eine ideale Lösung für eine Vielzahl von Anwendungen, von hochpräzisem Ätzen, Aschen und physikalisch-chemischer Verarbeitung bis zur schnellen Herstellung hochwertiger Geräte. Das fortschrittliche Design, die Leistung und die flexiblen Funktionen des ICP machen es zu einer idealen Wahl für eine breite Palette von Ätz- und Ascheanwendungen.
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