Gebraucht STS / CPX Multiplex ICP #9185200 zu verkaufen
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ID: 9185200
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Dry etcher, 8"
BOSCH Process
Handler
Chiller
Turbo pump
HF Generator
Carousel vacuum load lock
With ICP SR / HR process chamber
Pumps: No
EPD: No
Lower electrode PSU: No LF
Wafer flat size: Other
Clamp: WTC
Gas box: Mini
ASE Requirement: Switched licence
Voltage: 400V
Gases:
C4F8 100 sccm
O2 100 sccm
Ar 100 sccm
He 100 sccm
SF6 100 sccm
Multiplex ICP process chamber (MESC)
ICP 240BF Source
RF Supply: 1 kW (13.56 MHz)
Matching unit for ICP source
Generator: 5 kW
RF Supply: 300 / 30 Watt (13.56 MHz)
Matching unit for lower electrode
Electrode temperature control: +5 to +40°C
Mechanical wafer clamping electrode (Pin lift)
With backside cooling
LEYBOLD Turbo pump MAC 2000
Standalone VDU
Keyboard
Mouse
SOI Kit: No
CE Marked
1999 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP ist eine fortschrittliche Ätz-/Aschermaschine, die mehrere individuelle Prozesse verwendet, um eine hochpräzise Mikrofertigung von Metallteilen zu erreichen. Das System besteht aus einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP) und einem multiplexierten HF-Generator, der mehrere ICP-Quellen nacheinander zünden kann. Die ICP-Quelle ist so ausgebildet, dass der HF-Generator in vier synchronisierten Zyklen brennt und einen kontinuierlichen Hochleistungs-Plasmastrom über einen weiten Bereich in der Kammer bereitstellt. Die ICP-Quelle hat einen breiten Frequenzbereich, der eine komplizierte Musterkontrolle und präzisere Oberflächenätzraten ermöglicht. Die ICP-Quelle ist auch in der Lage, tiefere Metalle und beschichtete Oberflächen mit minimaler Verzerrung und hoher Ausbeute zu ätzen. Der multiplexierte HF-Generator enthält mehrere Kanäle, die jeweils Hochleistungsimpulse an die ICP-Quelle liefern können. Dies bietet eine flexible Ätzumgebung sowie extrem gleichmäßige Ätzraten. Der multiplexierte HF-Generator ermöglicht auch ein präzises Timing zwischen den ICP-Quellen, so dass sie synchron brennen und den Prozessdurchsatz maximieren können. STS Multiplex ICP Etch/Asche Einheit hat sich gezeigt, um qualitativ hochwertige Filmabscheidung und Ätzen von verschiedenen Metallsubstraten, einschließlich Kupfer, Aluminium, Nickel und Stahl. Die Maschine ist auch in der Lage, komplexe Muster und hochpräzise Oberflächen zu ätzen. Darüber hinaus kann das Werkzeug auch zur Herstellung von 3D-bedruckten Bauteilen mit Metallpulverpartikeln oder fragmentierten Folien verwendet werden. CPX Multiplex ICP ist ein vielseitiges und zuverlässiges Etcher/Asher-Asset, das qualitativ hochwertige, konsistente und gut kontrollierte Ergebnisse für eine Vielzahl von Prozessen liefert. Es ist eine zuverlässige Lösung für Mikro- und 3D-Druckanwendungen und kann zum hochpräzisen Ätzen von Metallen und anderen Materialien verwendet werden.
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