Gebraucht STS / CPX Multiplex ICP #9185200 zu verkaufen

ID: 9185200
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Dry etcher, 8" BOSCH Process Handler Chiller Turbo pump HF Generator Carousel vacuum load lock With ICP SR / HR process chamber Pumps: No EPD: No Lower electrode PSU: No LF Wafer flat size: Other Clamp: WTC Gas box: Mini ASE Requirement: Switched licence Voltage: 400V Gases: C4F8 100 sccm O2 100 sccm Ar 100 sccm He 100 sccm SF6 100 sccm Multiplex ICP process chamber (MESC) ICP 240BF Source RF Supply: 1 kW (13.56 MHz) Matching unit for ICP source Generator: 5 kW RF Supply: 300 / 30 Watt (13.56 MHz) Matching unit for lower electrode Electrode temperature control: +5 to +40°C Mechanical wafer clamping electrode (Pin lift) With backside cooling LEYBOLD Turbo pump MAC 2000 Standalone VDU Keyboard Mouse SOI Kit: No CE Marked 1999 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP ist eine fortschrittliche Ätz-/Aschermaschine, die mehrere individuelle Prozesse verwendet, um eine hochpräzise Mikrofertigung von Metallteilen zu erreichen. Das System besteht aus einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP) und einem multiplexierten HF-Generator, der mehrere ICP-Quellen nacheinander zünden kann. Die ICP-Quelle ist so ausgebildet, dass der HF-Generator in vier synchronisierten Zyklen brennt und einen kontinuierlichen Hochleistungs-Plasmastrom über einen weiten Bereich in der Kammer bereitstellt. Die ICP-Quelle hat einen breiten Frequenzbereich, der eine komplizierte Musterkontrolle und präzisere Oberflächenätzraten ermöglicht. Die ICP-Quelle ist auch in der Lage, tiefere Metalle und beschichtete Oberflächen mit minimaler Verzerrung und hoher Ausbeute zu ätzen. Der multiplexierte HF-Generator enthält mehrere Kanäle, die jeweils Hochleistungsimpulse an die ICP-Quelle liefern können. Dies bietet eine flexible Ätzumgebung sowie extrem gleichmäßige Ätzraten. Der multiplexierte HF-Generator ermöglicht auch ein präzises Timing zwischen den ICP-Quellen, so dass sie synchron brennen und den Prozessdurchsatz maximieren können. STS Multiplex ICP Etch/Asche Einheit hat sich gezeigt, um qualitativ hochwertige Filmabscheidung und Ätzen von verschiedenen Metallsubstraten, einschließlich Kupfer, Aluminium, Nickel und Stahl. Die Maschine ist auch in der Lage, komplexe Muster und hochpräzise Oberflächen zu ätzen. Darüber hinaus kann das Werkzeug auch zur Herstellung von 3D-bedruckten Bauteilen mit Metallpulverpartikeln oder fragmentierten Folien verwendet werden. CPX Multiplex ICP ist ein vielseitiges und zuverlässiges Etcher/Asher-Asset, das qualitativ hochwertige, konsistente und gut kontrollierte Ergebnisse für eine Vielzahl von Prozessen liefert. Es ist eine zuverlässige Lösung für Mikro- und 3D-Druckanwendungen und kann zum hochpräzisen Ätzen von Metallen und anderen Materialien verwendet werden.
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