Gebraucht STS / CPX Multiplex ICP #9196059 zu verkaufen

STS/CPX Multiplex ICP ist eine Art von Ätz- und Aschemaschinen, die zur Herstellung einer Vielzahl komplexer Muster auf Substraten wie Silizium, Polyimid und Quarz verwendet werden. Das System kombiniert Ionenstrahlätzen und chemisch unterstützte Ätz-/Aschetechniken, um hohe Produktionsraten, eine verbesserte Prozesskontrolle und wiederholbare Produkte bereitzustellen. STS Multiplex ICP ist mit einer proprietären High Energy Plasma Source (HEPS) und fortschrittlicher Substratpositionierungseinheit für die vollständige Substratbewegungssteuerung ausgestattet. Die Maschine ist in der Lage, bis zu 4-Zoll und 6-Zoll (200mm x 150 mm) Substrate zu verarbeiten und verfügt über ein Prozessfenster bis zu 12 ″ mit hoch- und niederdielektrischen Schichten. Es hat eine hohe Auflösung von bis zu 100nm, was es ermöglicht, feinere Linienbreiten, klare Vias und bessere Schattierungen als herkömmliche Ätz-/Ascheprozesse bereitzustellen. Ein integriertes Gasförderwerkzeug ermöglicht das präzise Ätzen und Aschen unter Zugabe mehrerer Gase, darunter Stickstoff, Chlor und Fluor. CPX Multiplex ICP verfügt über einen geringen Stromverbrauch für verbesserte Betriebssicherheit und -kosten. Diese Anlage verwendet auch ein fortschrittliches Filtrationsmodell, um zu verhindern, dass sich gefährliche Dämpfe und Partikel in der gesamten Produktionsumgebung ausbreiten. Durch die verbesserte Prozesssteuerung und Substratbewegungsfähigkeit ermöglicht diese Ätz-/Ascheeinrichtung höhere Durchsatzraten und konsistentere Prozessergebnisse. Mit seiner hochenergetischen Plasmaquelle ist Multiplex ICP auch in der Lage, eine Vielzahl von Materialtypen wie Silizium, Polyimid und Quarz zu verarbeiten. Darüber hinaus kann es auch extrem dicke Schichten bis 100 µm verarbeiten. STS/CPX Multiplex ICP hat die Ätz-/Ascheperformance durch die Hinzufügung einer proprietären Prozessfolge, die verschiedene Schritte umfasst, vom Waschen (das Partikel von der Oberfläche entfernt) über das Ätzen (das zur Erzeugung von Mustern im Material verwendet wird) bis hin zum Aschen (das zur Entfernung von überschüssigem Material ut) weiter verbessert. Es hat auch ein einstellbares Vorspannungssystem für verbesserte Prozessabstimmung und präzise Ergebnisse. Insgesamt ist STS Multiplex ICP eine fortschrittliche Ätz- und Ascheeinheit, die für Produktions- und Forschungstätigkeiten geeignet ist. Es verfügt über verbesserte Prozesssteuerung und Durchsatzraten, eine hohe Auflösung für bessere Schattierung und Strukturierung, geringen elektrischen Verbrauch für verbesserte Sicherheit und eine proprietäre Prozessfolge, um wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten.